活性層光混合法におけるLD変調周波数特性の注入光波長依存性
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概要
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半導体レーザ(LD)素子単体の変調周波数特性を測定する方法の1つに、活性層光混合法がある。これは、2つの光をLDの活性層に注入し、そのビート周波数で活性層内のキャリア密度を変調する方法である。従って、駆動電気回路やボンディングワイヤ等の寄生素子の影響を受けずに、LD素子単体の特性が測定できる。前回までに我々は、この活性層光混合法において、注入する光の波長によってキャリア密度変調機構が異なることを明らかにした。これは、LD活性層内における利得が波長に依存している為に、注入光の波長によって、活性層全体にわたってキャリア密度が変調される場合と、一部のみが変調される場合があるというものであった。一般に、活性層の一部のキャリア密度のみが変調される場合には、活性層内のキャリア拡散等の影響から、得られる変調周波数特性も異なると予想される。そこで今回、キャリア密度の変調領域が異なる波長の光を注入し、変調周波数特性の差異を測定したのて報告する。
- 1996-09-18
著者
-
後藤 俊夫
名古屋大学化学科
-
森 正和
愛知工業大学
-
後藤 了祐
名古屋大学
-
森 正和
名古屋大学
-
後藤 了祐
富士通
-
後藤 俊夫
名古屋大学 工学研究科量子工学専攻
-
宮内 彰
富士通
-
宮内 彰
富士通株式会社
-
後藤 俊夫
Imram Tohoku University
-
後藤 俊夫
名古屋大学
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