複数のマスク処理を併用した高発生確率インパルス性雑音重畳画像からのエッジ検出

概要

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加法雑音により劣化した画像からエッジ検出を行うには, 前処理としてフィルタ処理によりあらかじめ雑音を除去する必要がある. しかし, フィルタ処理は原信号自身の劣化を引き起こすため, 筆者らはこれまで, 混合雑音が重畳した画像から直接エッジのみを検出する方法をファジー推論を介したデータ依存処理により成し遂げてきた. しかしながら単一のマスク処理では適用可能な劣化画像の範囲等におけるデータ依存性に限界があった. 例えば, 高発生確率インパルス性雑音が重畳した画像からエッジを抽出する場合, インパルス性雑音の影響をなくすためには大きなマスクを, 細部等のエッジを正確に検出するためには小さなマスクをそれぞれ適用する必要があり, 単一のマスク処理によって, 同時に二つの要求を満たすことは不可能であった, そこで本論文では, 高発生確率インパルス性雑音が重畳した画像から二つのサイズの違うマスク処理を併用したエッジ検出法を提案する. 本研究で提案する複数マスク処理の併用は雑音除去を完全に行うための大きいマスクによる処理と画像細部のエッジを検出するための小さいマスクによる処理をファジー推論を介して統合したものである. このことより発生確率が50%以上のインパルス性雑音により劣化した画像からも良好なエッジ検出が可能となった.
社団法人電子情報通信学会の論文
1999-01-25

複数のマスク処理を併用した高発生確率インパルス性雑音重畳画像からのエッジ検出

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