Al CVDにおけるアルミ有機金属ソースガスの比較

概要

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Al CVDにおけるアルミ有機金属ガスの比較を行った。Al CVDプロセスのために検討されている主なソースガスとして、ジメチルメチルアルミニウムDMAH[(CH_3)_2AlH、ジメチルエチルアミンアランDMEAA[AlH_3N(CH_3)_2(C_2H_5)]2つの候補がある。いずれを用いても堆積したAl膜の表面モルフォロジの平坦性や、コンタクトホールにおける段差被覆性など、Al CVDに要求される堆積特性はほぼ同じであるといえる。しかし、Alの堆積速度の温度依存性より求めた活性化エネルギーは、DMAHの方が小さく、コンフォーマル堆積を行ったときの膜厚の再現性が確保し易いと言える。また、DMAHは、室温で放置しておいても殆ど分解せず、DMEAAに比べ、化学的に安定であり、安全なソースガスの保存や、高精度な輸送ができるといえる。Al CVDプロセス用のソースガスとして、量産装置に要求される再現性や安全性の確保の観点から、DMAHが、DMEAAに比べ優れている。
社団法人電子情報通信学会の論文
1997-08-25