高密度マクロセルジェネレータMOSAIC
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概要
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マクロセルを高密度でレイアウトするマクロセルジェネレータMOSAICを開発した.リーフセルをタイル状に隙間なく配置し,あらかじめリーフセル内に埋め込んだパス配線を使ってリーフセル間の配線を行う方式を採用している.レイアウトを強く意識した特別な回路図が必要なく,またリーフセルを汎用的に用いるために膨大な種類のリーフセルを準備する工数が不要である.試行結果では7k トランジスタ/mm^2(1μmプロセス使用時)のレイアウト密度を実現している.
- 一般社団法人情報処理学会の論文
- 1992-01-15
著者
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鈴木 五郎
(株)日立製作所
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夏目 幸一郎
(株)日立製作所半導体グループ
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山本 哲也
(株)日立製作所日立研究所
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夏目 幸一郎
(株)日立製作所 中央研究所
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岡村 芳雄
(株)日立製作所デバイス開発センター
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