四ホウ酸ナトリウムガラスコーティンゲからのチタン基板上へのTiO_2サブミクロン-スケールロッドアレーのトポタキシャルな核形成と成長
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概要
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A novel approach to fabricate sub-μm scale arrays is demonstrated with the growth of rutile TiO_2 on titanium substrates. The fabrication process is template-free, simply involving coating of the titanium substrate with sodium tetraborate glass, Na_2O・2B_2O_3: when the glass coating was removed by dissolution in distilled water at 80℃ for about 5 h, random or well-ordered submicron-scale rod arrays of rutile were left on the substrate. A glass phase topotaxial (GPT) nucleation and growth mechanism is thought to operate in the crystal growth process.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 2004-10-01
著者
-
早川 聡
岡大院・自然
-
尾坂 明義
岡山大学工学部精密応用化学科
-
尾坂 明義
岡山大学工学部
-
尾坂 明義
岡山大院・自然科学
-
早川 聡
岡山大学工学部
-
都留 寛治
岡山大学工学部生物機能工学科生体素材工学研究室
-
劉 永興
岡山大学工学部生物機能工学科生体素材工学研究室
-
都留 寛治
岡山大学工学部生物機能工学科
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