常温の水溶液中における単結晶シリコン上でのアパタイト形成機構
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概要
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Single crystal silicon was soaked in a solution with ion concentrations 1.5 times those of human blood plasma (1.5SBF) and a bone-like apatite layer formed on it. From analyzing the surface structural change of single crystal silicon and the composition change of solution during soaking, the mechanism of apatite formation was interpreted as follows. The single crystal silicon reacts with 1.5SBF to form a silica gel layer on its surface. The gel layer induces apatite nucleation on its surface and the apatite nuclei grow by consuming calcium and phosphate ions from 1.5SBF. By continuously supplying the ions, a dense and uniform layer of apatite with desired thickness can be formed. This method is promising for developing advanced functional medical devices such as biosensors.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 2002-11-01
著者
-
小久保 正
京大化研
-
小久保 正
京都大学大学院工学研究科
-
小久保 正
中部大学総合工学研究所
-
小久保 正
京都大学化学研究所
-
小久保 正
京都大学 工学研究科 材料化学 専攻
-
小久保 正
京都大学工学研究科
-
小久保 正
京大 大学院
-
畠 宏太郎
(株)村田製作所八日市事業所
-
小澤 尚志
京都大学大学院エネルギー科学研究科エネルギー基礎科学専攻
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