25aPS-38 電子系トータルエネルギー汎関数の最小化
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人日本物理学会の論文
- 1999-09-03
著者
関連論文
- 29a-PS-23 シリコンおよび金属表面の水酸基によるエッチング現象の第一原理計算(I)
- 水酸基による金属表面原子の除去加工の第一原理分子動力学シミュレーション
- 水酸基と相互作用するシリコン単結晶(001)水素終端化表面の第1原理分子動力学シミュレーション
- 5a-B-4 Si(001)水素終端化表面の水酸基によるエッチング現象の第一原理計算(I)
- 19pPSB-62 実空間差分法に基づく水分子解離過程の第一原理分子動力学シミュレーション
- 19pPSB-45 超純水のみによる電気化学的加工法 : Al (001)表面の陰極反応素過程の第一原理分子動力学シミュレーション
- EEM (elastic emission machining)の基礎研究 (第1報) : 極微小量弾性破壊の概念とその可能性
- EMM(Elastic Emission Machining)における表面原子除去過程の第一原理分子動力学シミュレーション
- 超清浄数値制御EEM(Elastic Emission Machining)の開発(第2報) -ノズル噴射流れを利用した加工ヘッドの開発-
- 超清浄数値制御EEM(Elastic Emission Machining)の開発(第1報) -超純水静圧軸受けを用いた数値制御ステージシステムの開発-
- Elastic Emission Machiningにおける表面原子除去過程の解析とその機構の電子論的な解釈
- 傾斜角積分法による形状測定(第2報)-EEMよる修正加工前後の形状測定-
- 傾斜角積分法による形状測定(第1報)-製作した自動測定装置の性能-
- シンクロトロン放射光用ミラーの超精密形状測定装置の開発
- 28pPSB-61 第一原理計算によるフラーレン鎖の電気特性の解析
- 20aTF-1 表面原子エッチングプロセスにおけるバックボンド弱体化機構のBond order DOSによる解析
- 第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Machining)加工特性の加工物材料(Si, Ge)依存性の解析
- 数値制御EEM(Elastic Emission Machining)加工システムの開発 : nmオーダでの加工精度の評価
- 29pPSA-39 水素終端化Si表面とZrO_2微粒子の水中での接触過程の第一原理計算による解析
- SPV(Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発
- 25pW-2 第一原理分子動力学によるフッ素および塩素のSi(001)表面への反応素過程シミュレーション
- 24aPS-49 第一原理分子動力学によるElastic Emission Machiningにおける表面反応の材料依存性の解析I : Si(001)表面とSiO_2, ZrO_2, TiO_2微粒子間の反応
- 24aPS-4 Lippmann-Schwinger方程式を用いた半無限系固体表面の電子状態計算手法の開発
- EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工に関する研究(第1報) : nmオーダの形状修正加工システムの開発
- 超洗浄EEM(Elastic Emission Machining)システムに関する研究(第1報) : シリコン表面の平坦化及び評価
- 超平滑・高精度表面形成プロセスのモデリングとシミュレーション (特集 ナノ加工・ナノ計測)
- 26aPS-6 Lippmann-Schwinger方程式を用いた半無限系固体表面の電子状態計算手法の開発
- 25aPS-38 電子系トータルエネルギー汎関数の最小化
- 25aPS-37 実空間差分法による水分子の解離過程の解析
- EEM(Elastic Emission Machining)の基礎研究(第2報) : 応力場から見た格子欠陥の発生, 増殖の可能性
- EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工法 : 流体中の粉末の挙動と加工特性
- EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工法 : 流体の挙動解析と膜厚分布
- EEM(Elastic Emission Machining)による超精密数値制御加工法
- EEM(Elastic Emission Machining)に関する研究 : 加工液中の溶存酸素がSiウエハ表面に与える影響
- EEM(Elastic Emission Machining) 加工システムの超清浄化
- EEMにおける原子除去過程の第一原理分子動力学シミュレーション
- 金属窒化物セラミックスの薄膜成長過程の第一原理シミュレーション
- EEMにおける原子除去過程の第一原理分子動力学シミュレーション
- 8a-YJ-8 GGAを用いた実空間差分電子状態計算II
- レーザ光散乱法によるSiウエハ付着微粒子計測装置の開発
- 半無限表面の電子状態の計算とそれに基づく光反射率スペクトルの解析
- 量子力学の第一原理に基づく電子状態の計算 -Si光反射率スペクトルの面方位依存性の解析-
- 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発
- 固体表面間の相互作用力に関する研究(第1報) : 界面エネルギーの原子論的評価
- 28a-PS-131 Simulated Annealingによる電子系エネルギー最小化
- 25pPSB-47 EEM (Elastic Emission Macining)における表面原子除去能率の考察(25pPSB 表面界面・結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長分野))