新しい希ガスエキシマ生成法による準連続誘導放出光の発生
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 結晶Si_3N_4のArFエキシマレーザー照射効果
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用 : 画像変換技術関連 : 情報入力 : 情報ディスプレイ
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用
- 1)真空紫外波長域における画像記録材料としてのイメージングプレート
- 真空紫外波長域における画像記録材料としてのイメージングプレート : 情報入力,情報ディスプレイ
- 放電励起Kr_2エキシマレーザー
- キャピラリー無声放電による真空紫外クリプトンエキシマ発光
- 真空紫外光によるSiウェハーの低温プロセス
- 電子ビーム励起希ガスエキシマレーザー
- 真空紫外光による物質プロセス
- 放電励起希ガスエキシマレーザーの研究
- 誘導ラマン効果を用いた希ガスエキシマの反転分布形成
- 超短パルスレーザー励起短波長レーザーの研究
- 光励起短波長レーザーの研究
- 放電励起希ガスエキシマをラマン活性媒質とした真空紫外レーザーの基礎研究
- 混合気ガスの電気ビーム励起による異種核希ガスエキシマレーザーに関する研究
- 高性能真空紫外希ガスエキシマ光源の開発
- フェムト秒ダブルパルスレーザ照射による表面周期構造の形成
- フェムト秒レーザを用いた薄厚シリコンウエハのダイシング加工 : レーザパルス幅が抗折強度と切断品質に及ぼす影響
- フェムト秒レーザによる微細周期構造のしゅう動特性に及ぼす影響
- 時間波形制御したフェムト秒レーザによる極薄半導体基板のダイシング技術の開発
- レーザー誘起表面周期構造のしゅう動特性
- フェムト秒レーザによる微細周期構造の形成
- フェムト秒レーザを用いた極薄半導体基板の加工技術の開発
- フェムト秒レーザアブレーションにおけるレーザ発振条件の加工特性に及ぼす影響
- フェムト秒レーザーを用いた自己組織的表面構造の形成
- ダブルパルスを用いたフェムト秒レーザーによるSiの加工
- フェムト秒レーザアブレーションにおけるレーザ発振条件の及ぼす影響
- フェムト秒レーザによるSiの穴あけ加工
- 高効率ガスジェット放電励起希ガスエキシマ光源
- BAS-TRイメージングプレートの紫外光領域における感度特性
- 紫外線領域におけるイメージングプレートの感度応答特性
- イメージングプレートの紫外から可視領域における感度応答特性
- エキシマレーザーによる電界分極石英ガラス中のSHG相の消去プロセス
- 電界分極Ge-doped石英ガラスの2次の非線形光学性
- フェムト秒レーザーを用いた半導体関連材料の加工と特性の評価
- フェムト秒ファイバーレーザーを用いたTHG顕微鏡の製作
- フェムト秒レーザによる微細周期構造の形成
- 水ジェットターゲットを用いたレーザー生成プラズマからの極端紫外光の高効率化
- 光電界電離真空紫外アルゴンエキシマレーザー
- 液体ターゲットを用いたレーザー生成プラズマ方式極端紫外光源
- レーザー生成プラズマからの極端紫外線発生
- 私の見たCLEO/QELS 2002
- 縦放電励起希ガスエキシマランプに関する研究
- 放電励起クリプトンエキシマーレーザー
- エキシマランプによるシリコンウェハのSiO_2膜の還元プロセス
- 放電励起希ガスエキシマレーザーに関する研究
- 誘電体バリア放電Xeエキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- ガスジェット放電励起真空紫外キセノンエキシマ光源
- ファイバグレーティングセンサ反射特性のシミュレーションによる解析
- 紫外レーザーを用いたファイバーグレーティングセンサーの作製と特性評価
- PLD法によるフッ化ランタン薄膜の作製
- フェムト秒レーザーを用いた半導体基盤の加工技術の開発
- AgBiTe_2マトリックスにAg_2Te粒を分散させたことによる熱電特性の向上 : (AgBiTe_2)_(Ag_2Te)_xの複合化効果
- フォトントンネル顕微鏡に関する基礎研究
- レーザー用先端光学材料特集号によせて
- 走査型トンネル顕微鏡に関する研究
- 誘電体バリア放電エキシマランプによる酸化ゲルマニウム薄膜の作製
- イメージングプレートの紫外感度特性
- MgIn_2O_4のArFエキシマレーザーアブレーション粒子のイオンサイクロトロン共鳴精度質量分析
- ArFエキシマレーザーによるポリイミドのアブレーション粒子の質量分析
- 超軟X線発光分析のレーザープロセシングへの応用
- 短波長レーザー照射による石英表面層内でのシリコン結晶成長 : 基礎V
- 3)イメージングプレートを用いた真空紫外からX線領域におけるレーザビームプロファイルの測定(〔テレビジョン電子装置研究会 画像表示研究会〕合同)
- 全反射減衰法による表面プラズモンポラリトンの研究
- エキシマランプを用いたフォトエッチングの基礎特性
- 高エネルギー及び高輝度光源を用いたマテリアルプロセッシングの研究
- 熱ポーリングによる中空石英ガラス管の第2高調波の高効率発生
- 石英ガラスを用いた波長変換デバイス
- 表面プラズモン共鳴を用いた薄膜モニター
- 物質表面における光化学反応の原子レベルでの観察と制御
- 真空紫外エキシマランプによる銅薄膜の室温合成に関する研究
- エキシマレーザーを用いた透明導電性酸化物薄膜の作成
- エキシマレーザーアブレーションによる透明導電性酸化物膜の作成
- フォトン走査型トンネル顕微鏡に関する研究
- 真空紫外エキシマランプによる光洗浄技術の開発(II)
- VUV-CVDを用いたSiO_2膜生成における生成レート制限因子
- 真空紫外光CVDによる酸化膜形成評価
- エキシマレーザーアブレーションによるβ-SiC薄膜の作製
- 飛行時間型質量分析法による表面微量分析技術の開発
- 多機能真空紫外希ガスエキシマ光源
- 添加ガスによる真空紫外光CVD-SiO_2膜の品質向上
- 新しい希ガスエキシマ生成法による準連続誘導放出光の発生
- 新非線形光学結晶の育成と評価
- PLD法による結晶性チタン酸バリウム薄膜の作製
- エキシマレーザーアブレーションによる非線形光学薄膜の作製
- フェムト秒レーザーアブレーションによるサファイア薄膜の作製
- エキシマレーザーアブレーションを利用したβ-SiC薄膜の作製
- エキシマレーザーアブレーションを利用したTi:Al_2O_3薄膜の作製
- パルスレーザーデポジション法による光機能性薄膜作製の研究
- Si_3N_4セラミックスのレーザーアブレーションに関する研究
- 走査型トンネル顕微鏡の製作と性能
- 高効率・高出力ジェット放電励起 希ガスエキシマランプの開発
- 4a-K-3 希ガスクラスターからの放電励起エキシマー発光 I
- フェムト秒レーザを用いた薄厚シリコンウエハのダイシング加工
- 希ガスエキシマ生成断面積計測システムの検討
- 真空紫外光プロセスの現状と将来
- 新しいエキシマ光源とその将来