X-ray Fluorescence Holography Study on Si_<1-x>Ge_x Single Crystal
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概要
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- Japan Institute of Metalsの論文
- 2004-07-20
著者
-
林 好一
東北大学金属材料研究所
-
松原 英一郎
東北大金研
-
Hayashi Kenshi
Department Of Electronics Faculty Of Engineering Kyushu University
-
松原 英一郎
京都大学 大学院工学研究科 材料工学専攻
-
松原 英一郎
Department Of Material Science And Engineering Kyoto University
-
TAKAHASHI Yukio
Department of Applied and Environmental Chemistry, Kitami Institute of Technology
-
MATSUBARA Eiichiro
Institute for Materials Research, Tohoku University
-
林 好一
京都大学大学院工学研究科
-
HAYASHI Kouichi
Institute for Materials Research, Tohoku University
-
Matsubara Eiichiro
Department Of Materials Science And Engineering Graduate School Of Engineering Kyoto University
-
Matsubara Eiichiro
Department Of Materials Science And Technology Kyoto University
-
松原 英一郎
京都大学大学院 工学研究科 材料工学専攻
-
Matsubara Eiichiro
Institute For Advanced Materials Processing
-
YONENAGA Ichiro
Institute for Materials Research, Tohoku University
-
Hayashi K
Photodynamics Research Center Riken (institute Of Physical And Chemical Research)
-
Yonenaga I
Institute For Materials Research Tohoku University
-
Yonenaga Ichiro
Institute For Materials Research Tohoku University
-
林 好一
Information Science And Electrical Engineering Kyushu University
-
Takahashi Yukio
Department Of Applied And Environmental Chemistry Kitami Institute Of Technology
-
Yonenaga Ichiro
Institute for Material Research, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan
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