X-ray Fluorescence Holography Study on Si_<1-x>Ge_x Single Crystal

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概要

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• Japan Institute of Metalsの論文
• 2004-07-20

著者

• 林 好一

  東北大学金属材料研究所

• 松原 英一郎

  東北大金研

• Hayashi Kenshi

  Department Of Electronics Faculty Of Engineering Kyushu University

• 松原 英一郎

  京都大学 大学院工学研究科 材料工学専攻

• 松原 英一郎

  Department Of Material Science And Engineering Kyoto University

• TAKAHASHI Yukio

  Department of Applied and Environmental Chemistry, Kitami Institute of Technology

• MATSUBARA Eiichiro

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• 林 好一

  京都大学大学院工学研究科

• HAYASHI Kouichi

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• Matsubara Eiichiro

  Department Of Materials Science And Engineering Graduate School Of Engineering Kyoto University

• Matsubara Eiichiro

  Department Of Materials Science And Technology Kyoto University

• 松原 英一郎

  京都大学大学院 工学研究科 材料工学専攻

• Matsubara Eiichiro

  Institute For Advanced Materials Processing

• YONENAGA Ichiro

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• Hayashi K

  Photodynamics Research Center Riken (institute Of Physical And Chemical Research)

• Yonenaga I

  Institute For Materials Research Tohoku University

• Yonenaga Ichiro

  Institute For Materials Research Tohoku University

• 林 好一

  Information Science And Electrical Engineering Kyushu University

• Takahashi Yukio

  Department Of Applied And Environmental Chemistry Kitami Institute Of Technology

• Yonenaga Ichiro

  Institute for Material Research, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan

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