19aYM-9 蛍光X線ホログラフィーにおける高精度位置決定アルゴリズムの開発(X線・粒子線(X線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2005-08-19
著者
-
林 好一
東北大学金属材料研究所
-
Hayashi Kenshi
Department Of Electronics Faculty Of Engineering Kyushu University
-
林 好一
京都大学大学院工学研究科
-
Hayashi K
Photodynamics Research Center Riken (institute Of Physical And Chemical Research)
-
林 好一
Information Science And Electrical Engineering Kyushu University
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