TiN皮膜の腐食環境下における遮断性の寿命に及ぼす圧縮応力の影響
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2003-08-28
著者
関連論文
- 114 UBMスパッタ法により形成したDLC膜の残留応力および密着性(OS02-4 歯車の強度IV/OS03 歯車の材料・熱処理・表面処理)
- UBMスパッタ法により形成したDLD膜の残留応力に及ぼす被覆条件の影響
- スクラッチ試験と180度曲げ試験を用いたDLC膜の密着性評価法の提案
- ホローカソード方式イオンプレーティング法で作製したチタン窒化物被膜の内部応力と表面あらさの関係
- アークイオンプレーティング法を用いたTiN被膜の耐食性向上 - ピンホール欠陥の酸化処理による封孔 -
- チタン窒化物皮膜の環境遮断性と腐食環境下での遮断性の維持に及ぼす皮膜残留応力の影響
- プロパンを用いて真空浸炭を行った低炭素鋼の表面炭素濃度と処理条件の関係
- ホローカソード方式イオンプレーティング法で作製したTi/TiN多層皮膜の耐食・耐摩耗性
- ラマン分光法によるDLC膜中水素濃度の分析
- DLC膜のトライボロジー特性に及ぼす環境条件の影響
- アークイオンプレーティング法によるクロム窒化物皮膜の摩擦・摩耗特性に及ぼす表面粗さの影響
- TiN皮膜の腐食環境下における遮断性の寿命に及ぼす圧縮応力の影響
- HCD 方式反応性イオンプレーティング法により形成したチタン窒化物皮膜の腐食環境下における遮断性の維持に及ぼす圧縮応力の影響
- HCD 方式反応性イオンプレーティング法により形成したチタン窒化物皮膜の腐食遮断性に及ぼす圧縮応力の影響
- HCD方式反応性イオンプレーティング法により形成したチタン窒化物皮膜に発生する圧縮応力への影響因子
- HCD方式反応性イオンプレーティング法により形成したチタン窒化物皮膜の格子面間隔および硬さに及ぼす残留応力の影響
- HCD 方式反応性イオンプレーティング法におけるチタン窒化物皮膜への不純物酸素の混入
- HCD方式反応性イオンプレーティング法により形成したチタン窒化物皮膜の化学組成と硬さに及ぼす成膜条件の影響
- EPMA,XPSおよびSIMSによるTiN皮膜中の酸素の定量精度
- 構造材料へのイオン注入技術の応用とその研究動向
- 環境に優しい浸炭熱処理法を目指して(第1回)真空浸炭における速度論的モデルの構築とその応用
- 浸炭熱処理炉の雰囲気制御に対する数値解析による支援
- HCD方式反応性イオンプレ-ティング法により形成したTiN皮膜硬さの結晶粒度依存性
- SUS304への窒素イオン注入による窒化物生成について
- ホウ素イオン注入処理を施したSUS304, Si_3N_4, WC-9%Coの摩擦磨耗特性評価
- サマリー・アブストラクト
- 雰囲気制御における平衡論, 速度論的取扱い
- 環境に優しい浸炭熱処理法を目指して (第1回) : 真空浸炭における速度論的モデルの構築とその応用
- G1100-2-3 高面圧転がり滑り接触におけるDLC膜のしゅう動特性([G1100-2]機素潤滑設計部門一般講演(2))
- X線マイクロアナライザ-によるチタン窒化物薄層皮膜の定量分析
- PVD被膜における密着性の改善
- 真空浸炭における最適処理条件の予測化 (熱処理作業へのコンピュ-タの応用特集)
- 原料ガス削減と選択的炉内H_2除去によるCO_2排出抑制型新ガス浸炭処理法
- 被覆処理技術 (特集 進化する表面改質技術とその応用) -- (最近の表面改質、及び周辺技術の進歩)
- NiめっきSKD11基材上に生成したCu微粒子による微細孔PVD硬質膜の密着性と摩擦特性
- 鋼の浸炭焼入熱処理の現状とこれから
- 微細孔PVD硬質膜形成のための硫酸銅めっき浴中での電析と溶解によるCu微粒子形成
- 環境に優しい浸炭熱処理法を目指して(第2回)真空浸炭における炭素濃度分布に及ぼす鋼表面に析出する煤の影響
- NiめっきSKD11基材上に生成したCu微粒子による微細孔PVD硬質膜の密着性と摩擦特性
- スクラッチ試験と１８０度曲げ試験を用いたＤＬＣ膜の密着性評価法の提案
- Fabrication of Copper Microparticles by Copper Deposition and Dissolution in Copper Sulfate Bath for Micropored PVD Hard Coating
- ＵＢＭスパッタ法により形成したＤＬＣ膜の残留応力に及ぼす被覆条件の影響