ナノ構造強磁性二重トンネル接合における磁気抵抗効果
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概要
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- 2000-09-01
著者
-
斉藤 好昭
(株)東芝 研究開発センター
-
斉藤 好昭
東芝
-
猪俣 浩一郎
東北大学大学院工学研究科知能デバイス材料学専攻
-
猪俣 浩一郎
物質・材料研究機構
-
斉藤 好昭
株式会社東芝研究開発センター
-
中島 健太郎
(株)東芝研究開発センター
-
猪俣 浩一郎
東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻
-
中島 健太郎
東芝
-
斉藤 好昭
東芝 研開セ
-
斉藤 好昭
(株)東芝研究開発センター
-
猪俣 浩一郎
(株)東芝 研究開発センター:科学技術振興機構
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