フッ素分子エキシマレーザー(157nm)用シリカガラス

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概要

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• 応用物理学会の論文
• 2000-04-10

著者

• 細野 秀雄

  東京工業大学 フロンティア研究センター

• 細野 秀雄

  東京工大 応用セラミックス研

• 細野 秀雄

  東京工業大学

• 細野 秀雄

  東京工大 フロンティア研究セ

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