チタン・シリサイドプロセスにおける構造相転移の問題について
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概要
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- 1995-04-10
著者
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奥村 孝一郎
日本電気(株)ulsiデバイス開発研究所
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松原 義久
NEC
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堀内 忠彦
Necエレクトロンデバイス先端デバイス開発本部
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松原 義久
日本電気(株)ULSIデバイス開発研究所
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堀内 忠彦
日本電気(株)ULSIデバイス開発研究所
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松原 義久
日本電気株式会社 Ulsiデバイス開発研究所
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