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長岡工業高等専門学校 電気工学科 | 論文
- RFスパッタ法によるMo, ZnO薄膜の作製と評価
- E-B蒸着・気相硫化法によるCu_2ZnSnS_4薄膜の作製と評価
- スパッタ・セレン化法によるCuInSe_2薄膜の作製と評価(II)
- 溶融法によるCu_2ZnSnS_4結晶の作製(薄膜プロセス・材料, 一般)
- 太陽電池に向けたSi基板上CuInS_2薄膜の検討
- タングステンメッシュにより生成した高密度水素ラジカル アニールによるZnO:Al膜の低抵抗化(薄膜プロセス・材料,一般)
- RFスパッタ法によるZnO薄膜の作製と評価
- パルスモードホットメッシュCVD法によるGaN成長条件の最適化(薄膜プロセス・材料,一般)
- 第三電極を有するマグネトロンスパッタ法によるAlドープZnO膜の低抵抗化(薄膜プロセス・材料,一般)
- 長岡高専における組込システム技術者育成研修とその活用
- C-6-7 第三電極を有するマグネトロンスパッタ法による均質なZnO薄膜の形成(C-6.電子部品・材料,一般講演)
- 同時スパッタプリカーサを用いたCZTS薄膜太陽電池(薄膜プロセス・材料, 一般)
- C-6-7 Wメッシュにより生成した水素ラジカルによるZnO:Al薄膜のアニール効果(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- C-6-7 第三電極を有するマグネトロンスパッタリング法によるAZO透明導電膜の水素アニール効果(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- 多元系化合物Cu_2ZnSnS_4光吸収層による新型薄膜太陽電池の開発
- C-6-4 第三電極を有するマグネトロンスパッタ法により作製したZnO薄膜の水素プラズマアニールの効果(C-6. 電子部品・材料,一般セッション)
- 第三電極を有するRFマグネトロンスパッタ法によるZnO透明導電膜特性の均一性評価(薄膜プロセス・材料,一般)
- 新材料による化合物薄膜太陽電池
- 大気開放CVD法によるZnO:Al薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- 蒸着・硫化法によるCu_2ZnSnS_4系薄膜太陽電池の作製
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