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東北大学 大学院 工学研究科 | 論文
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- 段階投資型半導体製造施設の研究
- シリコン(100)面の原子オーダー平坦化におけるl/fノイズ低減効果
- マイクロ波励起高密度プラズマによる低温直接窒化を用いて高品質極薄シリコン窒化ゲート絶縁膜に関する研究
- 小規模生産ラインとクリーン化技術
- 画像圧縮用ベクトル量子化プロセッサ
- ベクトル量子化を用いた静止画像高画質高圧縮システム
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- 低温プロセスを特徴とする低抵抗TaNx/Ta/TaNxゲート電極・Si_3N_4ゲート絶縁膜MNSFET
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- 325万画素APS-CサイズCMOSイメージセンサ
- 低温プロセスを特徴とする低抵抗TaNx/Ta/TaNxメタルゲートFDSOI-CMOS技術
- CMOSイメージセンサ技術
- マイクロ波励起高密度Kr/O_2/N_2プラズマを用いたシリコン酸窒化膜の低温形成
- バランスト電子ドリフトマグネトロンプラズマを用いたダメージフリーエッチング技術
- マイクロ波励起Kr/O_2プラズマによるシリコン酸化膜の低温形成
- マイクロ波励起低温高密度プラズマプロセス
- 知的財産マネジメントにおける発明評価に関する研究 (特集 知的財産の価値評価) -- (第2部 知的財産価値評価に関する論文)
- 特許出願意思決定支援のための発明評価への工学的手法の適用