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東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター | 論文
- Fabrication and Electrical Characteristics of Single Electron Tunneling Devices Based on Si Quantum Dots Prepared by Plasma Processing ( Quantum Dot Structures)
- Selective Etching of Hydrogenated Amorphous Silicon by Hydrogen Plasma ( Plasma Processing)
- Superconducting Properties of Ultrathin Films of YBa_2Cu_3O_x Prepared by Metalorganic Chemical Vapor Deposition at 500℃
- Preparation and Characterization of YBaCuO Superconducting Films by Low-Temperature Chemical Vapor Deposition Using β-Diketonate Complex and N_2O
- Preparation of Highly Oriented Copper Films by Photo-Assisted Chemical Vapor Deposition Using β-Diketonate Complex
- Epitaxial Growth of YBaCuO Films on Sapphire at 500℃ by Metalorganie Chemical Vapor Deposition
- Hole Transport in Silicon Thin Films with Variable Hydrogen Content
- Preparation of Polycrystalline Silicon by Hydrogen-Radical-Enhanced Chemical Vapor Deposition
- Hole Transport in a-Si:H(F) Prepared by Hydrogen-Radical-Assisted Chemical Vapor Deposition
- Designing New Materials with Amorphous Semiconductors : Structure and Electrical Properties of Multiply Stacked a-Si/a-SiGe_x Layers
- The Role of Hydrogen Radicals in the Growth of a-Si and Related Alloys
- Highly Oriented ZnO Films Prepared by MOCVD from Diethylzinc and Alcohols
- ブラッグ波長デチューニングによるGaInAsP/InP量子細線DFBレーザの特性温度の改善(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)
- ブラッグ波長デチューニングによるGaInAsP/InP量子細線DFBレーザの特性温度の改善(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)
- GaInAsP/InP極微構造の低損傷形成による低電流歪補償量子細線DFBレーザ(半導体レーザ関連技術, 及び一般)
- 1540nm波長帯GaInAsP/InP歪補償量子細線DFBレーザの低しきい値電流動作(量子効果型光デバイス・光集積化技術, 及び一般)
- GaInAsP/InP歪量子細線レーザの利得異方性(量子効果型光デバイス・光集積化技術, 及び一般)
- 1540nm波長帯GaInAsP/InP歪補償量子細線DFBレーザの低しきい値電流動作(量子効果型光デバイス・光集積化技術, 及び一般)
- CH_4/H_2ドライエッチングと埋め込み再成長法によるGaInAsP/InP歪補償多層量子細線レーザ(量子効果デバイス(LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)
- CH_4/H_2ドライエッチングと埋め込み再成長法によるGaInAsP/InP歪補償多層量子細線レーザ(量子効果デバイス(LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)
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