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日電アネルバ株式会社 | 論文
- Monte Carlo Simulation of Normal and Abnormal Glow Discharge Plasmas Using the Limited Weight Probability Method
- ECRプラズマエッチングの現状
- 小型ECRイオン源のイオン分析
- マイクロオージェ/シムス分析装置の開発II (機構)
- マイクロオージェ/シムス分析装置の開発I (ソフト・性能)
- 縦型両面放電プラズマCVD装置の開発
- レーザーによる地質試料の微小部からのアルゴン同位体の検出
- 四塩化炭素および四塩化炭素・ヘリウムによるアルミニウム膜の反応性イオンエッチング加工特性
- マグネトロン・スパッタリングによるアルミニウム薄膜のX線解析
- アブストラクト
- 四重極型質量分析計と電離真空計を組合せた分圧測定法
- 超LSI量産用スパッタ装置によるTiN膜の特性
- 光磁気ディスク用スパッタ装置
- 高速マグネトロンスパッタリングによる炭素薄膜の作製
- ジョセフソン素子用MgO/NbNエピタキシャル薄膜
- アブストラクト
- Monte Carlo Simulation of RF Plasmas and Trial Investigation of Similarity Rule
- 高速マグネトロンRFスパッタ法によるタンタル薄膜
- 高精度化された四重極質量分析計の特性評価
- 焼結タ-ゲットによるシリサイド・スパッタ膜の特性(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)