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日電アネルバ株式会社 | 論文
- 各種ドライエッチング装置と加工特性 : リアクティブイオンエッチング装置と加工特性(半導体素子 : 材料とプロセス技術)
- 2重構造タ-ゲットによるAlスパッタ膜のステップカバレッジ(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- リアクティブイオンエッチング
- Particle Simulation Study of Transition of Spatial Structure in a Plane-Parallel Hollow Cathode Discharge
- Monte Carlo Simulation of Discharge Plasmas Using Fine Subslabs
- 1p-BA-9 高周波電場中のプローブ特性(プラズマ物理・核融合(原子過程とプラズマ診断),第41回年会)