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日電アネルバ株式会社 | 論文
- 制御電極による2極スパッタの放電々流の制御(I) : 薄膜
- 直流二極スパッタの制御電極による制御
- サマリー・アブストラクト
- アブストラクト
- 人材開発と科学技術教育 : 企業における技術者育成活動と大学教育への要望
- 高温非平衡プラズマによるSiO2膜の作製
- 高温非平衡プラズマの特性と応用
- スパッタリングの歴史と応用
- プラズマCVDにおける発光スペクトルの放電周波数による変化
- 四重極質量分析計を用いた無機ガス用GC/MSの特性
- Gas-Temperature-Controlled CVDによる単結晶Al膜の作成
- Reduction of Plasma Damage in Reactive Ion Etching by Means of Suppressing Self-Bias ( Plasma Processing)
- 超高真空装置に用いたステンレス鋼の特性
- レーザ・イオン化法による圧力計測のための極高真空装置の試作
- Si-MBEにおける表面欠陥の減少
- ドライエッチング装置における安全対策
- 焼結ターゲットによるシリサイド・スパッタ膜の特性 (II)
- G-M冷凍機を用いたクライオポンプによるXHV実現の可能性
- レーザーマイクロプローブ質量分析法による塩化ビニル樹脂配合剤のプレートアウト現象の評価
- アブストラクト