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日電アネルバ株式会社 | 論文
- 高密度プラズマを用いた化学蒸着(CVD)法によるチタン系薄膜の作製と評価
- CVD-Al薄膜の成長過程とその下地依存性 : 堆積膜表面からの反射光強度のモニタ
- 低圧および低温のMO-CVD法によるTiN薄膜の作製
- ハイテクを支える真空技術と真空化学(話題を探る)
- マグネトロン・スパッタ・ターゲットの***ージョン・レート分布の数値シミュレーション
- 磁気混合流体を用いた平面研磨加工面に及ぼす磁場の影響 ([日本実験力学会]2009年度年次講演会)
- 磁気機能性流体による管内面研磨に対する流体力学的考察
- 磁気機能性流体による細管内面研磨の提案と技術的検討
- 無振動クライオポンプの開発
- マルチターゲットスパッタ法による Pb(Zr,Ti)O_3 強誘電体薄膜の作製とその評価
- 磁気混合流体を用いた細管内面の新しい研磨法について (日本実験力学会2004年度年次講演会) -- (実験力学分野全般(1))
- 定量的解析手法によるITOスパッタ時の酸素添加メカニズムの研究
- 29a-N-1 プローブ特性に対する高周波電位変動の影響
- 段階加熱法を用いた火山岩及びセリサイトの吸着Ar脱ガス実験
- レーザーマイクロプローブ質量分析法の構造解析への応用
- 帯状1ループアンテナプラズマ源のプラズマ特性
- 帯状1ループアンテナによる低圧力高密度プラズマの生成
- ヘリコンプラズマバイアスCVDにおける層間絶縁膜の埋設特性評価
- 多元同時スパッタリング法によるY_1Ba_2Cu_3O_y薄膜の作製
- 高真空平板マグネトロン放電の開発