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広島工業大学工学部電子・光システム工学科 | 論文
- C-6-10 RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法を用いたWNx薄膜のDC電圧による組成制御効果
- C-6-1 水素プラズマ曝露によるITO薄膜表面のXPS評価
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるSnNx薄膜の作製
- RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるTiN_x/Si系における下地効果
- Ar-N_2混合ガスを用いた高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法による窒化マグネシウム薄膜の作製
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるTiN_x/Si系の電気的特性
- Auスパッタリングを用いたX線光電子分光法における導電膜/絶縁基板の測定改善
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法を用いたAr-N_2ガスプラズマ中のTiターゲット表面組成
- SiO_2/Si界面及びSi表面のX線光電子分光法による評価
- RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるA〓Nx薄膜の組成制御
- ゾル・ゲル法により形成したSiO_xの薄膜のNF_3+O_2アニール効果
- RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるW薄膜の成長速度へのHe添加効果
- 水素プラズマ曝露によるSnO_2薄膜の還元
- 高周波アシスト直流マグネトロンスパッタ法による放電特性とTa薄膜の堆積速度
- RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるDC制御効果
- プラズマベースイオン注入滅菌法における窒素イオンエネルギーの推定
- 多重磁極マグネトロンスパッタ法により作製したCo及びCu薄膜の電磁波シールド効果
- 多重磁極マグネトロンスパッタ法により作製したNi薄膜の電磁波シールド効果
- 多重磁極RFスパッタ法を用いて作製したFe-N系薄膜の表面構造
- プラズマイオン注入法を用いてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に成膜したカーボン薄膜の特性