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アネルバ株式会社 | 論文
- 大面積プラズマ生成用線状アンテナのFDTD解析
- UHFプラズマ源の特性評価およびドライエッチングへの応用
- BDSによるCu配線向けバリア膜の開発
- 半導体デバイス用バイアス方向性スパッタリングの開発
- BDS装置におけるプラズマ密度とスパッタ金属原子のイオン化率の測定
- 地球温暖化PFCガス対策の進捗と展望 : CVDクリーニングRITE Pj成果展開と産学官連携による実用化の展望
- 多元同時スパッタリング法によるY_1Ba_2Cu_3O_y薄膜の作製
- 高真空平板マグネトロン放電の開発
- 真空計の種類と特徴 (特集 真空技術の最新動向)
- 制御電極による2極スパッタの放電々流の制御(I) : 薄膜
- 直流二極スパッタの制御電極による制御
- ハードディスクドライブと真空薄膜作製装置
- サマリー・アブストラクト
- サマリー・アブストラクト
- 人材開発と科学技術教育 : 企業における技術者育成活動と大学教育への要望
- スパッタリングの歴史と応用
- G-M冷凍機を用いたクライオポンプによるXHV実現の可能性
- 半導体製造装置からの全フッ素化合物(PFC)排出削減の取組
- 4元同時蒸着用電子ビーム蒸発源 (テトラガン) の開発
- マグネトロン・スパッタリングによるアルミニウム薄膜のX線解析