スポンサーリンク
アネルバ株式会社 | 論文
- CVD法による銅薄膜の成膜とガスの流れの関係
- 高密度プラズマを用いた化学蒸着(CVD)法によるチタン系薄膜の作製と評価
- CVD-Al薄膜の成長過程とその下地依存性 : 堆積膜表面からの反射光強度のモニタ
- 低圧および低温のMO-CVD法によるTiN薄膜の作製
- CO+NH_3を用いたエッチングにより形成したTMR素子
- ハイテクを支える真空技術と真空化学(話題を探る)
- マグネトロン・スパッタ・ターゲットの***ージョン・レート分布の数値シミュレーション
- マルチターゲットスパッタ法による Pb(Zr,Ti)O_3 強誘電体薄膜の作製とその評価
- イオン付着質量分析(IAMS)法による半導体製造プロセス排出フッ素化合物ガスのin-situ分析
- マルチウィンドウ型アンテナを用いた極超短波プラズマ源
- リチウムイオンの付加反応を利用した質量分析法
- スピニングロータ真空計の持ち回り実験
- 脱ガス処理を施した清浄化ステンレス鋼製真空容器の排気特性
- フラッシュ脱離(FD)法の極高真空計測への応用
- イオン付着質量分析法によるドライエッチング装置排出ガスの全成分分析
- クラッキングのないイオン付着質量分析装置の開発
- 定量的解析手法によるITOスパッタ時の酸素添加メカニズムの研究
- 60MHzの高周波を用いたマグネトロンスパッタにおけるプラズマ及び成膜特性
- Biased Directional Sputtering装置におけるプラズマ特性と金属原子のイオン化率の計測
- 大面積プラズマ生成用線状アンテナのFDTD解析