藤岡 洋 | 東大生研
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概要
関連著者
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藤岡 洋
東大生研
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藤岡 洋
東京大学生産技術研究所:科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業(jst-crest)
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小林 篤
東京大学大学院工学系研究科
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太田 実雄
東京大学生産技術研究所
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小林 篤
東大生研
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太田 実雄
東大生研
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Kobayashi Atsushi
Department Of Applied Chemistry The University Of Tokyo
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藤岡 洋
東京大学生産技術研究所
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岡本 浩一郎
東大生研
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井上 茂
東京大学生産技術研究所
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井上 茂
東大生研
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尾嶋 正治
東大院工
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尾嶋 正治
東大工
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川口 祐司
東京大学生産技術研究所
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河野 哲
東大生研
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金 明姫
東大院総合文化
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尾嶋 正治
東大院総合文化
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金 太源
神奈川科学技術アカデミー
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松木 伸行
神奈川科学技術アカデミー
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川口 祐司
東大生研
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中野 貴之
神奈川科学技術アカデミー
著作論文
- 01aB10 MgO基板上への半極性AlN薄膜の成長と評価(半導体エピ(2),第36回結晶成長国内会議)
- 01aB07 SiC(0001)ステップ基板上におけるIII族窒化物薄膜の室温成長初期過程の観察(半導体エピ(2),第36回結晶成長国内会議)
- 17pB06 (Mn,Zn)Fe_2O_4基板上におけるIII族窒化物薄膜の室温成長(半導体エピ(3),第35回結晶成長国内会議)
- 17pB07 格子整合ZrB_2基板上へのGaN低温成長(半導体エピ(3),第35回結晶成長国内会議)
- 17pB05 PLD法によるCu(111)基板上へのGaNのエピタキシャル成長(半導体エピ(3),第35回結晶成長国内会議)
- 01aB08 単結晶fcc金属基板上へのIII族窒化物エピタキシャル成長(半導体エピ(2),第36回結晶成長国内会議)