酒井 敦 | 株式会社ルネサステクノロジ

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概要

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• 同名の論文著者
• 株式会社ルネサステクノロジの論文著者

関連著者

• 酒井 敦

  株式会社ルネサステクノロジ

• 鎌倉 良成

  大阪大学大学院工学研究科

• Taniguchi K

  Osaka Univ. Osaka Jpn

• 谷口 研二

  大阪大学大学院工学研究科

• 鎌倉 良成

  大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻

• 酒井 敦

  大阪大学大学院工学研究科電子情報エネルギー工学専攻

• 谷口 研二

  大阪大

• Taniguchi K

  Department Of Electronics And Information Systems Osaka University

• 谷口 研二

  大阪大学 大学院 工学研究科

• 鎌倉 良成

  大阪大学工学部

• 谷口 研二

  大阪大学工学部

• 井上 靖朗

  (株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部

• 井上 靖朗

  (株)ルネサステクノロジ

• 園田 賢一郎

  株式会社ルネサステクノロジ

• 酒井 敦

  大阪大学工学研究科

• 石川 清志

  株式会社ルネサステクノロジ

• 井上 靖朗

  株式会社ルネサステクノロジ

• 茂庭 昌弘

  (株)ルネサステクノロジ

• 茂庭 昌弘

  半導体理工学研究センター

• 土屋 修

  株式会社ルネサステクノロジ

• 茂庭 昌弘

  株式会社ルネサステクノロジ

• 石川 清志

  ルネサステクノロジ

• 森藤 正人

  大阪大学 工学部

• 酒井 敦

  大阪大学 工学部

• 鎌倉 良成

  大阪大学 工学部

• 鎌倉 良成

  大阪大学 大学院工学研究科

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著作論文

• 空間的または時間的に一様でない系におけるトンネリングのシミュレーション(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 量子格子気体法によるデバイス内部の電子波伝搬解析(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 相変化メモリのリセット特性のモデリング(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 相変化メモリのリセット特性のモデリング(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 空間的または時間的に一様でない系におけるトンネリングのシミュレーション(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 量子格子気体法によるデバイス内部の電子波伝搬解析(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 量子格子気体法によるデバイス内部の電子波伝搬解析(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 量子格子気体法によるデバイス内部の電子波伝搬解析(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 極薄酸化膜の直接トンネリング電流計算における複素バンド構造モデルの重要性
• 極薄酸化膜の直接トンネリング電流計算における複素バンド構造モデルの重要性

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