吉富 崇 | 東芝セミコンダクター社
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概要
関連著者
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大黒 達也
(株)東芝セミコンダクタ社SoC研究開発センター
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大黒 達也
東芝セミコンダクター社:広島大学
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大黒 達也
東芝セミコンダクター社
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吉富 崇
東芝セミコンダクター社
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岩井 洋
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
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百瀬 寿代
(株)東芝セミコンダクタ社SoC研究開発センター
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百瀬 寿代
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
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岩井 洋
(株)東芝
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吉富 崇
(株)東芝研究開発センターULSI研究所
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大黒 達也
(株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター 高性能CMOSデバイス技術開発部
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百瀬 寿代
(株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター 高性能CMOSデバイス技術開発部
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勝又 康弘
(株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター
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岩井 洋
東工大フロンティア研
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勝又 康弘
(株)東芝セミコンダクタ社
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森藤 英治
(株)東芝
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Kimijima H.
(株)東芝
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森本 豊太
(株)東芝
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岩井 洋
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
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斎藤 雅伸
(株)東芝研究開発センターULSI研究所
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小野 瑞成
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
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中村 新一
(株)東芝研究開発センター
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大黒 達也
東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター
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永野 剛之
東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター
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豊島 義明
東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター
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小野 瑞城
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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中村 新一
(株)東芝
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永野 剛之
東芝セミコンダクター社
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小野 瑞成
東芝研究開発センター
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斎藤 雅伸
東芝研究開発センター
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吉富 崇
東芝研究開発センター
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Fiegna Claudio
ボローニャ大学
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大黒 達也
東芝研究開発センター
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百瀬 寿代
東芝研究開発センター
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岩井 洋
東芝研究開発センター
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川崎 敦子
東芝セミコンダクター社
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佐俣 秀一
東芝セミコンダクター社
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石川 哲也
東芝セミコンダクター社
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木村 智久
東芝セミコンダクター社
著作論文
- 0.1μm以下MOSFETの高性能化検討(ディープサブミクロンMOSトランジスタ技術小特集)
- CMOSにおけるプロセスダメージとアナログ特性の関係
- CMOSにおけるプロセスダメージとアナログ特性の関係
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- 0.1μm領域CMOSFETに於ける素子の電気的特性の基板不純物濃度依存性
- 高抵抗基板上に形成された高性能アナログ、デジタル混載デバイス