吉富 崇 | 東芝セミコンダクター社
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概要
関連著者
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大黒 達也
(株)東芝セミコンダクタ社SoC研究開発センター
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大黒 達也
東芝セミコンダクター社:広島大学
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大黒 達也
東芝セミコンダクター社
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吉富 崇
東芝セミコンダクター社
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岩井 洋
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
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百瀬 寿代
(株)東芝セミコンダクタ社SoC研究開発センター
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百瀬 寿代
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
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岩井 洋
(株)東芝
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吉富 崇
(株)東芝研究開発センターULSI研究所
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大黒 達也
(株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター 高性能CMOSデバイス技術開発部
著作論文
- 0.1μm以下MOSFETの高性能化検討(ディープサブミクロンMOSトランジスタ技術小特集)
- CMOSにおけるプロセスダメージとアナログ特性の関係
- CMOSにおけるプロセスダメージとアナログ特性の関係
- CMOSにおけるプロセスダメージとアナログ特性の関係
- 0.1μm領域CMOSFETに於ける素子の電気的特性の基板不純物濃度依存性
- 高抵抗基板上に形成された高性能アナログ、デジタル混載デバイス