内田 憲男 | (株)東芝 機械・システムラボラトリー

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• 菊入 信孝

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• 西田 純

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• 桑原 理

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• 平野 亮一

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• 広川 利夫

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• 桑原 理

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• 高橋 良彦

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• 小川 潔

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• 東木 達彦

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• 東条 徹

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• 田畑 光雄

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• 西坂 武士

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• 芳野 寿和

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• 米澤 実

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• 田畑 光雄

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• 関村 雅之

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• 足立 幹雄

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著作論文

• TTLアライメントを用いたエキシマレーザ露光装置
• 微動機構を用いたスライダの超精密定速送り技術
• 自重補償機構を備えた縦形の超精密XYステージ : 摩擦の影響を考慮した位置決め
• 二重回折格子による間隙変化に鈍感なマスクとウエハの位置合わせ法
• Si偏向ミラーアクチュエータの空気膜による減衰特性
• 光ディスク原盤記録機用スピンドルの非同期回転振れの計測
• X線ステッパのヘリウム濃度と圧力制御
• マスクとウエハの微小間隙設定法
• 回折格子によるマスクとウエハの間隙設定法
• 原盤露光装置の精密機構(光ディスク)

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