菅谷 慎二 | 富士通株式会社プロセス開発部

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概要

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• 菅谷 慎二

  富士通株式会社プロセス開発部

• 菅谷 慎二

  富士通

• 御手洗 伸

  富士通株式会社

• 庄野 健

  富士通(株)品質保証統括部

• 庄野 健

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• 山村 毅

  富士通

• 谷口 智彦

  富士通研究所

• 宮嶋 基守

  富士通(株)

• 中村 友二

  富士通研究所

• 石原 輝雄

  富士通株式会社

• 東 雅彦

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 中村 友二

  (株)富士通研究所

• 江原 英郎

  (株)富士通

• 中村 友二

  株式会社富士通研究所集積材料研究部

• 山村 毅

  富士通株式会社

• ホッブス アンソニー

  (株)富士通研究所

• 宮嶋 基守

  富士通株式会社

• 小林 登

  富士通

• 森 章吉

  富士通

• 宇都木 潔

  富士通

• 梶井 芳雄

  富士通

• 鴫原 靖二

  富士通

• 向 厚幸

  富士通九州ディジタルテクノロジ

• アンソニー ホッブス

  株式会社富士通研究所Cプロジェクト

• 村上 聡

  富士通株式会社プロセス開発部

• 細田 勉

  富士通株式会社プロセス開発部

• 大塚 敏志

  富士通株式会社プロセス開発部

• 矢内 賢一

  富士通(株)品質保証統括部

• 松山 英也

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• 渡邉 健一

  富士通(株)ULSI開発部

• 大塚 敏志

  富士通(株)ULSI開発部

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  富士通(株)ULSI開発部

• 小野田 恭也

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• 東 雅彦

  富士通株式会社

• 上田 敏光

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  富士通株式会社

• 久保田 勝久

  富士通株式会社

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  富士通株式会社

• 中村 友二

  株式会社富士通研究所

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著作論文

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• 0.5μm CMOSスタンダードセルを用いたVSELP CODEC DSPの開発
• Cu配線のエレクトロマイグレーション特性
• 0.35μm CMOSトランジスタのホットキャリア解析 : 論理回路におけるホットキャリア効果の検証
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