櫻井 誠 | 神戸大院理物理
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概要
関連著者
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櫻井 誠
神戸大院理物理
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桜井 誠
神戸大理
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桜井 誠
神戸大学
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戸名 正英
神戸大学理学研究科
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大谷 俊介
電通大レーザー研
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桜井 誠
神戸大院理物理
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中村 信行
電通大レーザー
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大谷 俊介
電通大レーザー
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山田 千樫
電通大量子・物質
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戸名 正英
高知工科大学
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櫻井 誠
神戸大理
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吉安 信雄
電通大量子物質
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高橋 学士
電通大レーザー
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大谷 俊介
電気通信大学レーザー新世代研究センター
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戸名 正英
CREST JST
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大谷 俊介
電通大レーザーセ
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渡辺 裕文
中部大
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渡辺 裕文
CREST JST
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永田 一夫
電通大レーザー
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渡辺 裕文
Crest:科学技術振興機構
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照井 通文
情報通信研究機構
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阿部 崇
電通大レーザー
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照井 通文
情報通信研究機構未来ICT研究センター
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渡辺 裕文
電通大レーザー
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孫 建
電通大レーザー
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藤田 祐崇
電通大レーザー
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戸名 正英
電通大レーザー
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櫻井 誠
神戸大学理学部
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孫 建
中部大学
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益子 信郎
情報通信研究機構関西先端研究センター
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坂上 裕之
テキサスa&m大
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孫 健
電通大レーザー
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馬場 由香里
電通大レーザー
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Shuessler H.
テキサス大
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Schuessler H.a.
Texas A & M Univ.
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朝倉 憲
神戸大学
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飯田 直幸
神戸大学
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劉 盛進
神戸大学
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益子 信郎
情報通信研究機構
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櫻井 誠
神戸大学
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櫻井 誠
神戸大学大学院理学研究科
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太田 仁
神戸大分子フォトセ
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藤 秀樹
神戸大院理
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藤 秀樹
神戸大理
-
藤 秀樹
神戸大
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櫻井 誠
神大理
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中村 信行
電気通信大学レーザー新世代研究センター
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山田 千樫
電通大レーザー
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中嶌 史晴
神大院自然
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福本 卓典
神戸大理
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Schuessler H
テキサスa&m大
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桜井 誠
神戸大学理学部
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戸名 正英
神戸大理
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藤原 亮正
大阪府立大理
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石川 春樹
神戸大理
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冨宅 喜代一
神戸大理
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Ohta Hitoshi
Department Of Physics Faculty Of Science Kobe University:venture Business Laboratory Kobe University
-
櫻井 誠
東京大学生産技術研究所第1部(神戸大学理学部)
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戸名 正英
神戸大学
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大谷 俊介
電気通信大学
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櫻井 誠
神戸大学理学研究科
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太田 仁
神戸大分子フォト
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太田 仁
神戸大学分子フォトサイエンス研究センター
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坂上 裕之
核融合研
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藤 秀樹
阪大基礎工
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中山 亮
東工大応セラ
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渡部 力
電通大レーザー
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大谷 俊介
CREST JST
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川瀬 悠司
神戸大理
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大西 弘行
神戸大理
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小林 朋弘
電通大レーザー
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中山 亮
電通大量子物質
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島崎 隆宏
電通大レーザー
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大谷 俊行
電通大レーザー
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吉安 信雄
電通大レーザー
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照井 通文
通総研関西
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高橋 学士
CREST JST
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永田 一夫
CREST JST
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吉安 信雄
CREST JST
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中村 信行
CREST JST
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山田 千樫
CREST JST
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坂上 裕之
核融合科学研 連携研究推進セ
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飯田 直幸
神戸大院理物理
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戸名 正英
神戸大院理化学
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劉 盛進
神戸大院理物理
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朝倉 憲
神戸大院理物理
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大谷 俊介
電通大 レーザーセンター
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中嶌 史晴
神戸大学理学部
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福本 卓典
神戸大学理学部
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中村 信行
電通大
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OHTA Hitoshi
Molecular Photoscience Research Center, Kobe University:Venture Business Laboratory, Kobe University
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中村 信行
電気通信大学
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大谷 俊介
電通大
著作論文
- 23pRA-6 X-ray emission yields dependent on the target materials in the interaction of slow highly charged ion with surfaces (II)
- 21aRF-1 Kobe EBISを用いた固体表面への多価イオン照射実験(放射線・原子分子融合(イオン・表面相互作用),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 21aRF-7 イオン-磁性体表面衝突における2次電子のスピン偏極度測定(放射線・原子分子融合(イオン・表面相互作用),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 21pRF-8 高価数多価イオンビームのガラスキャピラリー通過実験(原子・分子,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 21aXH-4 X-ray Emission Yields Dependent on the Target Materials
- 25pWD-11 Z dependence of the x-ray emission yield in highly charged ion-surface collisions
- 25pWD-8 多価イオン衝突による酸化物表面からの二次粒子放出II(25pWD 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 25pWD-7 多価イオン衝突による酸化物表面からの二次粒子放出I(25pWD 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 30aTB-6 多価イオン-表面衝突におけるX線収量(30aTB 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 30aTB-5 多価イオン-表面衝突によって生成したナノ構造の観察(30aTB 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 29pXN-7 多価イオン照射によるシリコン表面の改質I(原子・分子)(領域1)
- 20pXA-3 多価イオン-水素終端Si表面相互作用における表面化学反応(表面・界面ダイナミクス(半導体表面・実験),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 20aYA-2 多価イオン照射によって水素終端シリコンから放出された2次粒子の観測(原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 26pYA-8 多価イオン照射固体表面のラマン散乱2(原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 15pTE-9 多価イオン照射により改質された固体表面の電子エネルギー損失分光法による研究(原子 分子, 領域 1)
- 15pTE-8 多価イオン照射固体表面のラマン散乱(原子 分子, 領域 1)
- 15pTE-7 多価イオン照射によるシリコン表面の改質 II(原子 分子, 領域 1)
- 29pXN-5 ナノプロセス用電子ビーム多価イオン源の設計(原子・分子)(領域1)
- 25pRH-8 SEM・AFMによる多価イオン照射領域の観察(25pRH 原子分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 26aRH-7 質量分析機能を備えた気相NMR分光装置の開発(26aRH 原子分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 多価イオンによる表面改質効果
- 多価イオンによる表面改質効果
- ナノプロセス用電子ビーム多価イオン源の開発と応用 (特集 新世代ナノデバイス・材料の世界)
- ナノプロセス用電子ビーム多価イオン源の開発
- 28aRA-10 質量分析機能を備えた気相NMR分光装置の開発II(28aRA 原子分子(理論・分光・表面),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 電子ビーム多価イオン源の特性