櫻井 誠 | 神戸大院理物理

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概要

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• 櫻井 誠

  神戸大院理物理

• 桜井 誠

  神戸大理

• 桜井 誠

  神戸大学

• 戸名 正英

  神戸大学理学研究科

• 大谷 俊介

  電通大レーザー研

• 桜井 誠

  神戸大院理物理

• 中村 信行

  電通大レーザー

• 大谷 俊介

  電通大レーザー

• 山田 千樫

  電通大量子・物質

• 戸名 正英

  高知工科大学

• 櫻井 誠

  神戸大理

• 吉安 信雄

  電通大量子物質

• 高橋 学士

  電通大レーザー

• 大谷 俊介

  電気通信大学レーザー新世代研究センター

• 戸名 正英

  CREST JST

• 大谷 俊介

  電通大レーザーセ

• 渡辺 裕文

  中部大

• 渡辺 裕文

  CREST JST

• 永田 一夫

  電通大レーザー

• 渡辺 裕文

  Crest:科学技術振興機構

• 照井 通文

  情報通信研究機構

• 阿部 崇

  電通大レーザー

• 照井 通文

  情報通信研究機構未来ICT研究センター

• 渡辺 裕文

  電通大レーザー

• 孫 建

  電通大レーザー

• 藤田 祐崇

  電通大レーザー

• 戸名 正英

  電通大レーザー

• 櫻井 誠

  神戸大学理学部

• 孫 建

  中部大学

• 益子 信郎

  情報通信研究機構関西先端研究センター

• 坂上 裕之

  テキサスa&m大

• 孫 健

  電通大レーザー

• 馬場 由香里

  電通大レーザー

• Shuessler H.

  テキサス大

• Schuessler H.a.

  Texas A & M Univ.

• 朝倉 憲

  神戸大学

• 飯田 直幸

  神戸大学

• 劉 盛進

  神戸大学

• 益子 信郎

  情報通信研究機構

• 櫻井 誠

  神戸大学

• 櫻井 誠

  神戸大学大学院理学研究科

• 太田 仁

  神戸大分子フォトセ

• 藤 秀樹

  神戸大院理

• 藤 秀樹

  神戸大理

• 藤 秀樹

  神戸大

• 櫻井 誠

  神大理

• 中村 信行

  電気通信大学レーザー新世代研究センター

• 山田 千樫

  電通大レーザー

• 中嶌 史晴

  神大院自然

• 福本 卓典

  神戸大理

• Schuessler H

  テキサスa&m大

• 桜井 誠

  神戸大学理学部

• 戸名 正英

  神戸大理

• 藤原 亮正

  大阪府立大理

• 石川 春樹

  神戸大理

• 冨宅 喜代一

  神戸大理

• Ohta Hitoshi

  Department Of Physics Faculty Of Science Kobe University:venture Business Laboratory Kobe University

• 櫻井 誠

  東京大学生産技術研究所第1部(神戸大学理学部)

• 戸名 正英

  神戸大学

• 大谷 俊介

  電気通信大学

• 櫻井 誠

  神戸大学理学研究科

• 太田 仁

  神戸大分子フォト

• 太田 仁

  神戸大学分子フォトサイエンス研究センター

• 坂上 裕之

  核融合研

• 藤 秀樹

  阪大基礎工

• 中山 亮

  東工大応セラ

• 渡部 力

  電通大レーザー

• 大谷 俊介

  CREST JST

• 川瀬 悠司

  神戸大理

• 大西 弘行

  神戸大理

• 小林 朋弘

  電通大レーザー

• 中山 亮

  電通大量子物質

• 島崎 隆宏

  電通大レーザー

• 大谷 俊行

  電通大レーザー

• 吉安 信雄

  電通大レーザー

• 照井 通文

  通総研関西

• 高橋 学士

  CREST JST

• 永田 一夫

  CREST JST

• 吉安 信雄

  CREST JST

• 中村 信行

  CREST JST

• 山田 千樫

  CREST JST

• 坂上 裕之

  核融合科学研 連携研究推進セ

• 飯田 直幸

  神戸大院理物理

• 戸名 正英

  神戸大院理化学

• 劉 盛進

  神戸大院理物理

• 朝倉 憲

  神戸大院理物理

• 大谷 俊介

  電通大 レーザーセンター

• 中嶌 史晴

  神戸大学理学部

• 福本 卓典

  神戸大学理学部

• 中村 信行

  電通大

• OHTA Hitoshi

  Molecular Photoscience Research Center, Kobe University:Venture Business Laboratory, Kobe University

• 中村 信行

  電気通信大学

• 大谷 俊介

  電通大

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著作論文

• 23pRA-6 X-ray emission yields dependent on the target materials in the interaction of slow highly charged ion with surfaces (II)
• 21aRF-1 Kobe EBISを用いた固体表面への多価イオン照射実験(放射線・原子分子融合(イオン・表面相互作用),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
• 21aRF-7 イオン-磁性体表面衝突における2次電子のスピン偏極度測定(放射線・原子分子融合(イオン・表面相互作用),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
• 21pRF-8 高価数多価イオンビームのガラスキャピラリー通過実験(原子・分子,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
• 21aXH-4 X-ray Emission Yields Dependent on the Target Materials
• 25pWD-11 Z dependence of the x-ray emission yield in highly charged ion-surface collisions
• 25pWD-8 多価イオン衝突による酸化物表面からの二次粒子放出II(25pWD 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 25pWD-7 多価イオン衝突による酸化物表面からの二次粒子放出I(25pWD 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 30aTB-6 多価イオン-表面衝突におけるX線収量(30aTB 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 30aTB-5 多価イオン-表面衝突によって生成したナノ構造の観察(30aTB 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 29pXN-7 多価イオン照射によるシリコン表面の改質I(原子・分子)(領域1)
• 20pXA-3 多価イオン-水素終端Si表面相互作用における表面化学反応(表面・界面ダイナミクス(半導体表面・実験),領域9(表面・界面,結晶成長))
• 20aYA-2 多価イオン照射によって水素終端シリコンから放出された2次粒子の観測(原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 26pYA-8 多価イオン照射固体表面のラマン散乱2(原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 15pTE-9 多価イオン照射により改質された固体表面の電子エネルギー損失分光法による研究(原子 分子, 領域 1)
• 15pTE-8 多価イオン照射固体表面のラマン散乱(原子 分子, 領域 1)
• 15pTE-7 多価イオン照射によるシリコン表面の改質 II(原子 分子, 領域 1)
• 29pXN-5 ナノプロセス用電子ビーム多価イオン源の設計(原子・分子)(領域1)
• 25pRH-8 SEM・AFMによる多価イオン照射領域の観察(25pRH 原子分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 26aRH-7 質量分析機能を備えた気相NMR分光装置の開発(26aRH 原子分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 多価イオンによる表面改質効果
• 多価イオンによる表面改質効果
• ナノプロセス用電子ビーム多価イオン源の開発と応用 (特集 新世代ナノデバイス・材料の世界)
• ナノプロセス用電子ビーム多価イオン源の開発
• 28aRA-10 質量分析機能を備えた気相NMR分光装置の開発II(28aRA 原子分子(理論・分光・表面),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 電子ビーム多価イオン源の特性

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