照井 通文 | 通総研関西
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概要
関連著者
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照井 通文
通総研関西
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照井 通文
情報通信研究機構
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益子 信郎
通総研関西先端研センター
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益子 信郎
通総研関西セ
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丸山 有成
法政大工
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丸山 有成
法政大 工
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益子 信郎
情報通信研究機構
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丸山 有成
法大工
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荒井 毅
九大理
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WILLIAMS K.A
ケンタッキー大
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上門 敏也
通総研関西セ
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奥野 好成
(独)情報通信研究機構 関西先端研究センター
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奥野 好成
通総研
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上門 敏也
通総研関西先端研センター
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奥野 好成
通総研関西先端研センター
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鈴木 仁
通総研関西先端研
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益子 信郎
情報通信研究機構 関西先端研究センター ナノ機構グループ
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上門 敏也
情報通信研究機構
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戸名 正英
神戸大学理学研究科
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中村 信行
電通大レーザー
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大谷 俊介
電通大レーザー
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桜井 誠
神戸大理
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山田 千樫
電通大量子・物質
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櫻井 誠
神戸大理
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鈴木 仁
広大先端物質研
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戸名 正英
CREST JST
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吉安 信雄
電通大量子物質
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高橋 学士
電通大レーザー
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Williams K.A.
ケンタッキー大
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荒井 毅
九理大
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丸山 有成
法工大
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大谷 俊介
電通大レーザー研
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櫻井 誠
神戸大院理物理
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桜井 誠
神戸大学
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照井 通文
通総研関西先端研
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益子 信郎
通総研関西先端研
著作論文
- 29pXN-7 多価イオン照射によるシリコン表面の改質I(原子・分子)(領域1)
- 20aPS-39 金属基板上ポルフィリン分子の STM 観察と評価 III
- 28pPSB-23 金属基板上のポルフィリン分子の STM 観察と評価 II
- 28p-M-6 La_xC_薄膜におけるアニール効果
- 6p-D-15 La_xC_薄膜の作製と評価V
- 29a-D-14 La_xC_薄膜の作製と評価IV
- La_xC_薄膜の作製と評価III
- 1p-C-13 La_xC_薄膜の作製と評価II
- 逐次蒸着によるLa_xC_薄膜の作製
- 29a-J-4 La_XC_60薄膜の作製と評価
- 6pPSB-6 金属基板上ポルフィリン分子のSTM観察と評価(表面界面結晶成長,領域9)