栖原 敏明 | 大阪大学工学研究科電子工学専攻

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概要

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関連著者

• 栖原 敏明

  大阪大学工学研究科電子工学専攻

• 栖原 敏明

  大阪大学工学研究科

• 栖原 敏明

  大阪大学大学院工学研究科

• 西原 浩

  大阪大学工学研究科

• 西原 浩

  大阪大学

• 藤村 昌寿

  大阪大学大学院 工学研究科電気電子情報工学専攻

• 藤村 昌寿

  大阪大学工学研究科

• 西原 浩

  大阪大学工学部電子工学科

• 裏 升吾

  大阪大学工学部電子工学科

• 藤村 昌寿

  大阪大学工学部電子工学科

• 北戸 英理

  大阪大学工学研究科

• 井上 敏之

  大阪大学工学研究科

• 井上 敏之

  大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻

• 飯尾 晋司

  横河電機

• 上向井 正裕

  大阪大学大学院工学研究科

• 飯尾 晋司

  横河電機(株)

• 西原 浩

  阪大工

• 末広 雅幸

  横河電機(株)

• 吉本 亮裕

  大阪大学工学部電子工学科

• 平田 隆昭

  横河電機

• 上向井 正裕

  大阪大学工学部電子工学科

• 谷口 健博

  大阪大学工学部電子工学科

• 金高 健二

  大阪大学工学部電子工学科

• 遠藤 敏朗

  大阪大学工学部電子工学科

• 〓 丘丹

  大阪大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 小山 次郎

  大阪大学工学部電子工学科

• [スィング] 丘丹

  大阪大学工学部電子工学科

• 栖原 敏明

  大阪大学工学部電子工学科

• 平山 雄三

  (株)東芝研究開発センター

• 吉國 裕三

  NTTフォトニクス研究所

• 平山 雄三

  (株)東芝同社究

• 平山 雄三

  (株)東芝研究開発センター個別半導体基盤技術ラボラトリー

• 平田 隆昭

  横河電機(株)

• 吉國 裕三

  Nttフォトニクス研究所フォトニクスデバイス研究部

• 和田 守夫

  横河電機(株)

• 飯尾 晋司

  横河電機株式会社

• 裏 登吾

  大阪大学工学部電子工学科

• 西 壽巳

  大阪工業大学大学院工学研究科電気電子工学専攻

• 須藤 正明

  大阪大学工学部電子工学科

• 森口 浩伸

  大阪大学工学部電子工学科

• 平田 隆昭

  横河電機株式会社技術開発本部

• Fejer M.M.

  Ginzton Laboratory, Stanford University

• 和田 守夫

  横河電機株式会社

• 上向井 正格

  大阪大学工学部電子工学科

• 末広 雅幸

  横河電機株式会社光デバイス研究室

• 平田 隆昭

  横河電機デバイス研究所

• 飯尾 晋司

  横河電機デバイス研究所

• フェヤー M.m.

  スタンフォード大学ギンズトン研究所

• 藤井 孝佳

  大阪大学 工学部 電子工学科

• 邪 丘丹

  大阪大学工学部電子工学科

• 篠原 正幸

  大阪大学工学部電子工学科

• 西 壽巳

  大阪工業大学

• 藤井 孝佳

  大阪大学工学部電子工学科

• 安藤 秀樹

  大阪大学工学部電子工学科

• ボルツ M.L.

  スタンフォード大学ギンズトン研究所

• 杉本 映

  大阪大学 工学部電子工学科

• 杉本 映

  大阪大学工学部電子工学科

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著作論文

• 光デバイス
• グレーティング素子と量子井戸レーザを用いたモノリシック光集積センサ
• グレーティングカプラを用いた積層導波路間結合
• DFBレーザ発振器・テーパ型パワー増幅器・集光グレーティングカップラのモノリシック集積化
• グレーティングカップラを用いた積層導波路間結合
• グレーティングカップラを用いた積層導波路間結合
• 3次グレｰティングカップラの高効率化の基礎検討
• 光集積偏光回転検出デバイス用2重積層グレｰティングカップラの基礎特性
• 擬似位相整合用グレーティングの位相反転変調による導波路光SHG素子の位相不整合量受容幅拡大
• 逆進導波モード結合を利用したグレーティングカップラの放射光制御
• グレーティング素子と量子井戸レーザを用いたモノリシック光集積センサ
• AlGaAs GRIN-SCH導波路におけるグレーティング素子の設計と集積化
• 電圧印加によるLiNbO_3SHGデバイス用分極反転グレーティングの作製
• 電圧印加によるLiNbO_3SHGデバイス用分極反転グレーティングの作製
• 線集光グレーティングカプラを用いた光集積変位センサ
• 2次元グレーティングスケール変位計測用光集積ヘッド
• 電子ビームメモリ用Si-MOSターゲットの記録特性
• 共振器型LiNbO_3導波路擬似位相整合光第2高調波発生デバイスの検討
• 疑似位相整合による導波形 SHG 素子
• SiO_2装荷誘起分極反転を用いた擬似位相整合LiNbO_3導波形SHGデバイス
• アモルファス半導体における電子ビーム照射効果 : 特に光学的性質について
• 紫外光照射下電圧印加分極反転MgO:LiNbO_3導波路擬似位相整合第2高調波発生デバイス(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• 紫外光照射下電圧印加分極反転MgO:LiNbO_3導波路擬似位相整合第2高調波発生デバイス(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• 紫外光照射下電圧印加分極反転MgO:LiNbO_3導波路擬似位相整合第2高調波発生デバイス(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• 紫外光照射下電圧印加分極反転MgO:LiNbO_3導波路擬似位相整合第2高調波発生デバイス(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• 紫外光照射下電圧印加分極反転MgO:LiNbO_3導波路擬似位相整合第2高調波発生デバイス(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
• 紫外光照射下電圧印加分極反転MgO:LiNbO_3導波路擬似位相整合第2高調波発生デバイス

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