鷲尾 勝由 | 日立製作所中央研究所

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概要

• 同名の論文著者
• 日立製作所中央研究所の論文著者

関連著者

• 鷲尾 勝由

  株式会社日立製作所中央研究所

• 鷲尾 勝由

  (株)日立製作所中央研究所ulsi研究部

• 鷲尾 勝由

  日立製作所中央研究所

• 島本 裕巳

  ルネサス北日本セミコンダクタ

• 島本 裕己

  日立デバイスエンジニアリング

• 清田 幸弘

  日立

• 島本 裕巳

  日立デバイス

• 清田 幸弘

  日立製作所中央研究所

• 速水 礼子

  日立製作所中央研究所

• 橋本 尚

  日立製作所 デバイス開発センタ

• 橋本 尚

  (株)日立製作所 マイクロデバイス事業部

• 有働 勉

  日立超LSIシステムズ

• 児玉 彰弘

  日立デバイスエンジニアリング

• 児玉 彰弘

  (株)ルネサス北日本セミコンダクタ 小平第2設計センタ

• 小田 克矢

  日立製作所中央研究所

• 小田 克矢

  日立製作所

• 三浦 真

  日立製作所

• 白水 信弘

  株式会社日立製作所中央研究所

• 大畠 賢一

  日立デバイス

• 大畠 賢一

  (株)ルネサス北日本セミコンダクタ

• 荒川 文彦

  (株)日立デバイスエンジニアリング

• 大植 栄司

  日立

• 近藤 将夫

  (株)日立製作所中央研究所

• 田邊 正倫

  日立デバイスエンジニアリング株式会社武蔵野事業所

• 荒川 文彦

  日立デバイスエンジニアリング株式会社武蔵野事業所

• 大植 栄司

  日立製作所中央研究所

• 近藤 将夫

  日立製作所中央研究所

• 山口 修

  法政大学工学部

• 稲田 太郎

  法政大学工学部

• 荒川 文彦

  日立デバイス

• 田邊 正倫

  (株)ルネサス北日本セミコンダクタ

• 増田 徹

  日立製作所中央研究所

• 白水 信弘

  日立製作所中央研究所

• 田邊 正倫

  (株)ルネサス北日本セミコンダク

• 山口 修

  法政大

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著作論文

• HC1フリー選択エピタキシャル成長によるSiGe HBT(III族窒化物研究の最前線)
• HClフリー選択エピタキシャル成長によるSiGe HBT(III族窒化物研究の最前線)
• HC1フリー選択エピタキシャル成長によるSiGe HBT(III族窒化物研究の最前線)
• SiGe選択エピタキシャル成長前の基板表面清浄化方法がHBT特性に与える影響の検討
• 高制御Si/SiGeエピタキシャル成長による超低消費電力SiGe HBTの実現
• C-12-32 SiGeHBTを用いた40Gb/s光伝送システム用AGCアンプ

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