児玉 彰弘 | 日立デバイスエンジニアリング

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概要

• 同名の論文著者
• 日立デバイスエンジニアリングの論文著者

関連著者

• 鷲尾 勝由

  株式会社日立製作所中央研究所

• 鷲尾 勝由

  (株)日立製作所中央研究所ulsi研究部

• 島本 裕巳

  日立デバイス

• 児玉 彰弘

  日立デバイスエンジニアリング

• 島本 裕巳

  ルネサス北日本セミコンダクタ

• 島本 裕己

  日立デバイスエンジニアリング

• 児玉 彰弘

  (株)ルネサス北日本セミコンダクタ 小平第2設計センタ

• 橋本 尚

  日立製作所 デバイス開発センタ

• 橋本 尚

  (株)日立製作所 マイクロデバイス事業部

• 清田 幸弘

  日立

• 清田 幸弘

  日立製作所中央研究所

• 有働 勉

  日立超LSIシステムズ

• 速水 礼子

  日立製作所中央研究所

• 鷲尾 勝由

  日立製作所中央研究所

• 三浦 真

  日立製作所

• 鷲尾 勝由

  (株)日立製作所 中央研究所

• 大植 栄司

  日立

• 大植 栄司

  (株)日立製作所中央研究所

• 三浦 真

  (株)日立製作所 中央研究所

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著作論文

• HC1フリー選択エピタキシャル成長によるSiGe HBT(III族窒化物研究の最前線)
• HClフリー選択エピタキシャル成長によるSiGe HBT(III族窒化物研究の最前線)
• HC1フリー選択エピタキシャル成長によるSiGe HBT(III族窒化物研究の最前線)
• C-11-1 超高速 SiGe HBT におけるエミッタ・アスペクト比の最適化検討

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