堀田 將 | 北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

スポンサーリンク

概要

• 同名の論文著者
• 北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科の論文著者

関連著者

• 堀田 将

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

• 堀田 將

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

• Hayashi Shigenori

  Semiconductor Equipment System Laboratory Hitachi Kokusai Electric Inc.

• 堀井 將

  北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科

• 堀井 貞義

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

• 堀井 貞義

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科:(株)日立国際電気

• 横山 政司

  北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科

• 横山 政司

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

• 西岡 賢祐

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

• 戸田 猛夫

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

• 中田 靖則

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

もっと見る 閉じる

著作論文

• 直線偏光Nd:YAGレーザーによる規則性配列微細Siドットの形成(半導体Si及び関連材料・評価)
• HF+ヒドラジン溶液処理をしたエピタキシャル(100)ZrN/(100)Si構造上への(100)Ir薄膜の作製
• 高コヒーレント直線偏光パルスレーザービームによる結晶化Si薄膜の粒界位置制御
• エピタキシャルZrN膜/(100)Si基板上に形成したPZT薄膜の強誘電体特性
• エピタキシャルZrN薄膜/(100)Si基板上に形成したPZT薄膜の強誘電体特性
• (100)YSZ/(100)Si基板構造上にスパッタ法により形成したヘテロエピタキシャル(100)Ir及び(001)PZT薄膜の膜質特性
• (100)YSZ/(100)Si基板構造上にスパッタ法により形成したヘテロエピタキシャル(100)Ir及び(001)PZT薄膜の膜質特性
• スパッタ法によるシリコン基板上へのPb(Zr,Ti)O_3(PZT)薄膜のヘテロエピタキシャル成長

スポンサーリンク