堀井 貞義 | 北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科:(株)日立国際電気

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概要

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関連著者

• 堀田 将

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

• 堀田 將

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• 堀井 貞義

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

• Hayashi Shigenori

  Semiconductor Equipment System Laboratory Hitachi Kokusai Electric Inc.

• 堀井 將

  北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科

• 堀井 貞義

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科:(株)日立国際電気

• 横山 政司

  北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科

• 横山 政司

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

• 戸田 猛夫

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

著作論文

• HF+ヒドラジン溶液処理をしたエピタキシャル(100)ZrN/(100)Si構造上への(100)Ir薄膜の作製
• エピタキシャルZrN膜/(100)Si基板上に形成したPZT薄膜の強誘電体特性
• エピタキシャルZrN薄膜/(100)Si基板上に形成したPZT薄膜の強誘電体特性
• (100)YSZ/(100)Si基板構造上にスパッタ法により形成したヘテロエピタキシャル(100)Ir及び(001)PZT薄膜の膜質特性
• (100)YSZ/(100)Si基板構造上にスパッタ法により形成したヘテロエピタキシャル(100)Ir及び(001)PZT薄膜の膜質特性

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