作道 訓之 | 金沢工業大学

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概要

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• 金沢工業大学の論文著者

関連著者

• 作道 訓之

  金沢工業大学

• 林 啓治

  金沢工業大学

• 作道 訓之

  金沢工大 工

• 作道 訓之

  金沢工業大学 高度材料科学r&dセンター

• 豊田 一行

  (株)日立国際電気

• 小松 和弘

  金沢工業大学

• 豊田 一行

  日立国際電気

• 八島 伸二

  日立国際電気

• 八島 伸二

  (株)日立国際電気

• 豊田 一行

  国際電気

• 八島 伸二

  国際電気

• 石田 丈繁

  日立国際電気

• 池永 訓昭

  金沢工業大学

• 西山 陽子

  金沢工業大学

• 横川 貴史

  金沢工業大学

• 森 武志

  金沢工業大学

• 石田 丈繁

  国際電気

• 奥地 茂人

  金沢工業大学

• 田崎 義明

  金沢工業大学

• 宮本 淳史

  金沢工業大学

• 松永 保彦

  アプライドマテリアルズジャパン

• 伊藤 裕之

  アプライドマテリアルズジャパン

• 藤山 正孝

  金沢工業大学 高度材料科学R&Dセンター

• 安田 正明

  金沢工業大学 高度材料科学R&Dセンター

• 川合 敏雄

  慶応義塾大学理工学部 物理学科

• 川合 敏雄

  慶大理工

• 藤山 正孝

  金沢工業大学 高度材料科学r&dセンター

• 北川 喜康

  金沢工業大学 高度材料科学r&dセンター

• 廣前 治泰

  金沢工大高度材料科学r&dセンター

• 安田 正明

  金沢工業大学 高度材料科学r&dセンター

• 川合 敏雄

  慶応義塾大学

• 池永 訓昭

  渋谷工業

• 岸 陽一

  金沢工業大学

• 矢島 善次郎

  金沢工業大学

• 林 啓治

  金沢工大電気電子工学専攻

• 林 啓治

  金沢工大 高度材料科学r&dセ

• 大谷 英夫

  金沢工大 高度材料科学r&dセンター

• 高橋 成典

  アプライドマテリアルズジャパン

• 松峯 昌男

  金沢工業大学

• 阿部 悟

  金沢工大高度材料科学r&dセンター

• 大村 佳史

  金沢工業大学

• 油谷 真敏

  金沢工業大学

• 伊藤 清一

  アプライドマテリアルズジャパン

• 北川 喜康

  金沢工業大学 高度材料科学R&Dセンター

• 藤村 清信

  金沢工業大学

• 宮下 智康

  国際電気

• 廣前 治泰

  金沢工業大学大学院 工学研究科 電気電子工学専攻 林 研究室

• 阿部 悟

  金沢工業大学大学院 工学研究科 電気電子工学専攻 林 研究室

• 作道 訓之

  金沢工大 高度材料科学R&Dセンター

• 清水 規良

  金沢工大 高度材料科学R&Dセンター

• 武田 晃洋

  金沢工大 高度材料科学R&Dセンター

• 北川 喜康

  金沢工大 高度材料科学R&Dセンター

• 廣前 治泰

  金沢工大電気電子

• 作道 訓之

  金沢工大電気電子

• 佐藤 達也

  金沢工大電気電子

• 古川 宗治

  金沢工大電気電子

• 大谷 英夫

  金沢工大電気電子

• 川合 敏雄

  慶大 理工

• 野田 孝暁

  金沢工業大学

• 雪城 仁孝

  金沢工業大学

• 小野 智宏

  金沢工業大学

• 岸 陽一

  金沢工業大学 高度材料科学研究開発センター

• 清水 規良

  金沢工大高度材料科学研究開発センター

• 矢島 善次郎

  金沢工業大学 高度材料科学研究開発センター

• 佐藤 達也

  金沢工大 高度材料科学r&dセンター

• 林 啓治

  金沢工大 高度材料化学 R&d セ

• 水谷 大吾

  金沢工業大学

• 谷口 佳男

  金沢工業大学

• 遠藤 英毅

  金沢工業大学

• 米多 亮太

  金沢工業大学

• 池永 訓昭

  澁谷工業(株)

• 古川 宗治

  金沢工大 高度材料科学r&dセンター

• 武田 晃洋

  金沢工業大学 Ams R&d センター

• 神田 岳文

  岡山大学

• 作道 訓之

  金沢工業大学 工学部

• 林 啓治

  金沢工大電・光・エネ応用研

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著作論文

• ガス導入及びプラズマのパルス化によるイオン種の均一性向上
• 大口径プラズマにおけるイオン種空間分布の測定
• 永久磁石を用いたマイクロ波イオン源の磁路の設計
• パルスプラズマにおけるフラグメントイオンのRF電力依存性
• 磁界の最適化によるマイクロ波イオン源のB^+ビーム大電流化
• 24pZ-9 表面物性制御への応用を目的とした高品質中性ラジカルビームの生成技術の開発 (II) : PDECB法の理論検討
• 24pZ-8 表面物性制御への応用を目的とした高品質中性ラジカルビームの生成技術の開発 (I) : PDINIB装置の改良
• マイクロ波を重畳したICPプラズマの特性
• 分子動力学シミュレーションによる弾性接触動摩擦法則の研究
• 7a-PS-60 高品質中性ラジカルビーム生成技術の開発と表面プロセスへの応用
• 弾性接触摩擦の原子論的な単純化したモデルII
• 二電子温度マイクロ波プラズマにおけるプローブ測定
• プラズマイオン注入したPETシートの表面解析
• 工学専門実験・演習(2)「真空実験」における試み
• 低エネルギーイオンビーム
• 工業用イオン源
• ポリイミドフィルム基板上へのTiNi合金の低温成膜による形状記憶デバイスの作製
• イオン照射とスパッタリングの同時プロセスを利用したTiNi合金薄膜の低温合成技術の開発
• スパッタリングと水熱合成を用いた圧電デバイス用PZT薄膜の作製

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