工業用イオン源
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概要
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Industrial applications of ion beams began in the 1970's with their application in fabrication of semiconductor devices. Since then, various improvements have been carried out for source lifetimes, current levels and diversification of ion species. Nowadays, ion beams are expected to be used for surface modification of materials as well as semiconductor fabrication. In this report, some of the typical ion sources are reviewed from the viewpoint of future industrial use.
- 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
- 1994-04-25
著者
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