梅田 浩司 | 三菱電機(株)ULSI技術開発センター

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概要

• 同名の論文著者
• 三菱電機(株)ULSI技術開発センターの論文著者

関連著者

• 大野 吉和

  (株)ルネサステクノロジ

• 梅田 浩司

  ULSI技術開発センター

• 梅田 浩司

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 梅田 浩司

  三菱電機(株)ULSI技術開発センター

• 大野 吉和

  三菱電機(株)ULSI技術開発センター

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  三菱電機 ULSI開発研究所

• 井上 真雄

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• 寺本 章伸

  三菱電機(株)

• 井上 真雄

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• 重富 晃

  三菱電機(株)ULSI技術開発センター

• 丸山 祥輝

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• 丸山 祥輝

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• 西本 章

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著作論文

• ラジカル窒化によるゲート絶縁膜形成プロセスの検討
• ゲート酸化膜の破壊メカニズム
• ゲート酸化膜寿命の電界依存性
• RTA装置で形成したゲート絶縁膜の電気特性

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