上原 康 | 三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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概要
関連著者
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上原 康
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
上原 康
三菱電機(株)先端技術総合研究所
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石川 博章
三菱電機(株)先端総研
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上原 康
三菱電機(株)材料デバイス研究所
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酒井 宏
(財)無人宇宙実験システム研究開発機構
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薮内 賀義
三菱電機株式会社生産技術センター
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古藤 悟
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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大串 哲朗
広島国際大学工学部
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谷村 純二
三菱電機先端技術総合研究所
-
石川 博章
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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越智 誠司
三菱電機(株)先端技術総合研究所
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新谷 博光
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
高田 志郎
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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三井 興太郎
三菱電機株式会社光マイクロ波デバイス開発研究所
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三橋 豊
三菱電機株式会社光マイクロ波デバイス開発研究所
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酒井 宏
財団法人無人宇宙実験システム研究開発機構
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上原 康
三菱電機(株)
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越智 誠司
現 : 三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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梅田 浩司
ULSI技術開発センター
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古藤 悟
三菱電機
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河瀬 和雅
三菱電機(株)先端総研
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土本 淳一
(株)ルネサステクノロジ
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芝野 照夫
三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
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相賀 正夫
三菱電機(株)光・マイクロ波デバイス開発研究所
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谷村 純二
三菱電機(株)先端総研
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古藤 悟
三菱電機 先端技総研
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樋口 英世
三菱電機(株)高周波光素子事業統括部
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樋口 英世
三菱電機株式会社
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土本 淳一
ルネサス テクノロジ
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土本 淳一
ルネサステクノロジ(株)プロセス開発部
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越智 誠司
現
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谷村 純二
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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大串 哲朗
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
三井 興太郎
三菱電機(株)光マイクロ波デバイス開発研究所
-
谷村 純二
先端技術総合研究所
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上原 康
先端技術総合研究所
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大串 哲郎
先端技術総合研究所
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新谷 博光
先端技術総合研究所
-
薮内 賀義
生産技術センタ
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高田 志郎
先端技術総合研究所
-
石川 博章
先端技術総合研究所
-
古藤 悟
先端技術総合研究所
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三橋 豊
三菱電機(株)光マイクロ波デバイス開発研究所
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梅田 浩司
(株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部
-
芝野 照夫
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
土本 淳一
(株)ルネサステクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部、プロセス開発部
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河瀬 和雅
三菱電機 先端総研
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野田 清治
三菱電機 先端総研
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中井 隆文
三菱電機 先端総研
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上原 康
三菱電機 先端総研
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三井 興太郎
三菱電機株式会社ulsi開発研究所
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相賀 正夫
三菱電機株式会社
著作論文
- HfSiO_x薄膜のXAFSによる局所構造解析(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
- SFU(Space Flyer Unit)による微小重力環境下でのInGaP気相成長実験
- SFUにおける微小重力環境下でのInGaPの気相成長実験
- 鉛およびビスマス化合物のL吸収/発光スペクトル
- L特性X線を用いたタンタルおよびタングステン化合物の状態分析法の検討
- オゾン酸化によるCVD-SiO_2膜の高密度化
- SR光を用いたX線反射率測定によるSiO2膜解析 (特集 マイクロ・ナノテクノロジー適用例とその評価・解析技術)
- 放射光を用いた電子デバイス用金属化合物の状態分析