小林 慶裕 | NTT基礎研
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概要
関連著者
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小林 慶裕
NTT基礎研
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小林 慶裕
阪大
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荻野 俊郎
横国大
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荻野 俊郎
横浜国立大学大学院工学研究院
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荻野 俊郎
NTT基礎研究所
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河野 日出夫
大阪大学大学院理学研究科
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梅内 誠
日本電信電話株式会社NTTアクセスサービスシステム研究所
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河野 日出夫
阪大理物
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竹田 精治
阪大理物
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住友 弘二
NTT基礎研
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日比野 浩樹
NTT基礎研
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竹田 精治
阪大理学研究科
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高木 大輔
Ntt基礎研
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正田 薫
阪大理
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大島 忠平
早大材研
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本間 芳和
日本電信電話(株)ntt物性科学基礎研究所
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Takeda Shingo
Faculty Of Science Himeji Institute Of Technology
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Takeda Shingo
Graduate School Of Science Himeji Inst. Of Tech.
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住友 弘二
Ntt物性科学基礎研究所
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梅内 誠
早大材研
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梅内 誠
Nttアクセスサービスシステム研究所
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長尾 忠昭
東大理
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大島 忠平
早大材研
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本間 芳和
東理大
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日比野 浩樹
Ntt物性科学基礎研究所
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日比野 浩樹
Ntt 物性科学基礎研究所
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本間 芳和
NTT電応研
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Prabhakaran Kuniyil
日本電信電話(株)
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篠田 幸信
NTT基礎研
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杉井 清昌
NTT基礎研
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Prabhakaran Kuniyil
NTT基礎研究所
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Takeda Shuzaburo
Department Of Electro-photo-optics School Of Engineering Tokai University
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竹田 精治
大阪大学・産業科学研究所
著作論文
- 23aTA-6 CF_4プラズマによるSWCNTのフッ素化(23aTA 領域7,領域10合同 ナノチューブ・グラファイトにおける欠陥,領域7(分子性固体・有機導体))
- 30a-PS-15 Na吸着Si(111)-7×7表面のHREELS
- 24p-R-5 Si(111)微斜表面の動力学的考察
- 材料・プロセスイノベーションによる新構造形成への挑戦 : Si/Ge多層膜への酸素イオン注入によるSi/SiO_2/Ge多層構造の形成
- 結晶シリコン表面水素の偏光赤外分光