城川 潤二郎 | 古河電気工業株式会社横浜研究所

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概要

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関連著者

• 城川 潤二郎

  古河電気工業株式会社横浜研究所

• 城川 潤二郎

  古河電工(株)横浜研究所

• 吉田 清輝

  古河電気工業株式会社横浜研究所

• 伊東 義曜

  古河電気工業株式会社横浜研究所

• 吉田 清輝

  古河電工横浜研究所

• 吉田 清輝

  古河電工横浜研究所次世代技術センター

• 吉田 清輝

  古河電気工業(株)

• 伊東 義曜

  古河電気工業株式会社 横浜研究所

• 尾鍋 研太郎

  東京大学大学院工学系研究科物理工学専攻

• 尾鍋 研太郎

  東京大学

• 白木 靖寛

  東京大学

• 尾鍋 研太郎

  東大

• 奥村 次徳

  東京都立大学大学院工学研究科

• 奥村 次徳

  東京都立大・電気

• 粕川 秋彦

  古河電気工業株式会社

• 粕川 秋彦

  古河電気工業(株)横浜研究所 半導体研究開発センター

• 粕川 秋彦

  古河電気工業(株)ファイテルフォトニクス研究所半導体デバイス開発部

• 粕川 秋彦

  古河電工

• 植田 菜摘

  古河電気工業株式会社 横浜研究所

• 石井 宏辰

  古河電気工業株式会社 半導体研究開発センター

• 奥村 次徳

  東京都立大学

• 石井 宏辰

  古河電気工業(株)ファイテルフォトニクス研究所半導体デバイス開発部

• 石井 宏辰

  古河電気工業株式会社横浜研究所

• 香村 幸夫

  古河電気工業株式会社生産技術開発センター

• 三上 俊宏

  古河電気工業株式会社生産技術開発センター

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著作論文

• GaNP SQWを用いた青色LED (窒化物・青色光半導体)
• 光照射MOCVD法によるGaNP LED(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
• 光照射MOCVD法によるGaNP LED(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
• フォトリフレクタンス法によるInGaP-HBTエミッタ/ベース界面の評価 : 光起電力効果の検討
• 3-14 古河電工における歴史に残すべき技術 : 光ファイバと励起レーザ (3. 企業や研究機関等ごとの歴史に残すべき技術) (電子情報通信分野の歴史に残すべき技術 : 産業界を中心として)

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