奥村 次徳 | 東京都立大学
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概要
関連著者
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奥村 次徳
東京都立大学大学院工学研究科
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奥村 次徳
東京都立大・電気
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奥村 次徳
東京都立大学
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兼城 千波
北海道大学工学研究科電子情報工学専攻・量子界面エレクトロニクス研究センター
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兼城 千波
東京都立大学大学院工学研究科電気工学専攻:(現)北海道大学工学部量子界面エレクトロニクス研究センター
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兼城 千波
北大
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城川 潤二郎
古河電気工業株式会社横浜研究所
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城川 潤二郎
古河電工(株)横浜研究所
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山本 伸一
東京都立大学大学院・工学研究科
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植田 菜摘
古河電気工業株式会社 横浜研究所
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石井 宏辰
古河電気工業株式会社 半導体研究開発センター
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山本 伸一
東京都立大学大学院・工学研究科:松下電器
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石井 宏辰
古河電気工業(株)ファイテルフォトニクス研究所半導体デバイス開発部
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石井 宏辰
古河電気工業株式会社横浜研究所
著作論文
- 光陽極エッチング・めっき連続プロセスによる理想GaAsショットキー接触の形成
- 電気化学STMを用いたGaAs表面観察と局所加工
- 光陽極エッチング・めっき連続プロセスによるGaAsショットキー接触の形成
- 総論
- 総論
- 半導体への不純物ドーピング
- GaAs表層のプロセスダメージとショットキー特性
- フォトリフレクタンス法によるInGaP-HBTエミッタ/ベース界面の評価 : 光起電力効果の検討
- ワイドギャップ半導体特集号によせて