栄森 貴尚 | 三菱電機ulsi技術開発センター
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概要
関連著者
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栄森 貴尚
三菱電機ulsi技術開発センター
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栄森 貴尚
三菱電機ULSI開発研究所
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三菱電機 (株) Ulsi技術開発センター
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三菱電機ULSI開発研究所
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尾田 秀一
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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太田 和伸
ソニー株式会社
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西村 正
三菱電機 Ulsi技開セ
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森 義弘
松下電器産業(株)
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西村 正
三菱電機株式会社 Lsi 研究所
著作論文
- CMOS/SIMOX技術を用いた動作電圧範囲の広いSOI-DRAM
- 超低電圧動作の16MビットDRAM/SOI技術 (特集"半導体") -- (メモリ)
- スタック型キャパシタ構造の薄膜SOI-DRAMプロセス
- 局所歪みチャネル技術による高駆動能力55nmCMOSの作製
- 90ナノメートル世代のシステムLSI技術 (特集 IT社会に貢献する半導体)