YBa2Cu3O7-x薄膜のエピタキシャル成長 (酸化物系超伝導物質と材料) -- (昭和63年度秋季大会講演特集)
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概要
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The orientation of YBa<SUB>2</SUB>Cu<SUB>3</SUB>O<SUB>7-x</SUB> thin films grown on (110) planes of SrTiO<SUB>3</SUB> by activated reactive evaporation was investigated by means of reflection high energy electron diffraction. The orientation of the films depended on the substrate temperature. The films with the (110) plane parallel to the substrate surface grew in the narrow range of substrate temperatures around 530°C, while the films with the (103) plane parallel to the surface grew at the temperatures above 600°C. The change of the epitaxial orientation with the substrate temperature was discussed refering the temperature dependence of the lattice mismatch between YBa<SUB>2</SUB>Cu<SUB>3</SUB>O<SUB>7-x</SUB> and SrTiO<SUB>3</SUB>.
- 社団法人 粉体粉末冶金協会の論文
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