300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
ArF液侵リソグラフィー技術を用いて300mm SOIウェハ上にチャネル型シリコン細線導波路,方向性結合器,リング共振器を作製し,光学特性を評価した.評価結果は数値計算結果との良い一致を示し,シリコンフォトニクスデバイス作製に本プロセス工程を用いることの有効性が確認された.
- 一般社団法人電子情報通信学会の論文
- 2013-06-14
著者
-
北 智洋
東北大学大学院工学研究科電気・通信工学専攻
-
山田 博仁
東北大学工学研究科
-
堀川 剛
産業技術総合研究所
-
関 三好
産業技術総合研究所
-
越野 圭二
独立行政法人産業技術総合研究所
-
杉山 曜宣
独立行政法人産業技術総合研究所
-
佐野 作
独立行政法人産業技術総合研究所
-
北 智洋
東北大学工学研究科
-
外山 宗博
産業技術総合研究所
-
佐野 作
産業技術総合研究所
-
大塚 実
産業技術総合研究所
-
田主 裕一朗
東北大学工学研究科
-
奈良 匡樹
東北大学工学研究科
-
平野 秀
東北大学工学研究科
-
越野 圭二
産業技術総合研究所
-
横山 信幸
産業技術総合研究所
-
杉山 曜宣
産業技術総合研究所
-
石塚 栄一
産業技術総合研究所
関連論文
- Si細線光導波路の曲がり損失の数値解析(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- SOI導波路基板上へのLDチップ実装方法に関する検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 多層膜型フォトニック結晶の等価屈折率(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- SOI導波路基板上へのLDチップ実装方法に関する検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- ZnO非線形光学効果光導波路(光パッシブコンポーネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- 多層膜型フォトニック結晶の反射抑制について(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- 多層膜型フォトニック結晶の等価屈折率(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- C-3-14 Si細線光導波路による波長可変レーザ用リング共振器フィルタの解析(導波路デバイス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-34 フォトニックエレメントによる偏波制御機能の検討(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-31 分光イメージング用フォトニック結晶型波長フィルター(フォトニック結晶,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- Si細線光導波路の曲がり損失の数値解析(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- C-3-48 Si細線光導波路リング共振器フィルタを用いた波長可変レーザの狭スペクトル線幅化の検討(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-79 環状配置したサブ波長格子からの共鳴反射(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-4 分光イメージング向け多層模型波長フィルター(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- フォトニックエレメントを用いた偏波制御機能の検討(光波センシング,光波制御・検出,光計測,ニューロ,一般)
- フォトニックエレメントを用いた偏波制御機能の検討(光波センシング,光波制御・検出,光計測,ニューロ,一般)
- 多層膜型フォトニック結晶の光フィルター機能(光波センシング,光波制御・検出,光計測,ニューロ,一般)
- 多層模型フォトニック結晶の光フィルター機能(光波センシング,光波制御・検出,光計測,ニューロ,一般)
- C-3-26 ヘモグロビン分光イメージング計測用多層膜型フィルター(光計測・センシング(I),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-64 共鳴モード格子を用いた円形共振器の共振特性(導波路解析(II),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- シリコン細線光導波路を用いた狭線幅波長可変レーザーの開発 (信頼性)
- シリコン細線光導波路を用いた狭線幅波長可変レーザーの開発 (レーザ・量子エレクトロニクス)
- シリコン細線光導波路を用いた狭線幅波長可変レーザーの開発 (光エレクトロニクス)
- シリコン細線光導波路を用いた狭線幅波長可変レーザーの開発 (電子部品・材料)
- シリコン細線光導波路を用いた狭線幅波長可変レーザーの開発 (機構デバイス)
- C-3-96 分散関係を利用したグレーテイングカプラの設計(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-70 曲がり共鳴モード格子の光共振器への応用(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-44 Si細線光導波路リング共振器フィルタを用いた狭線幅波長可変レーザ(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-36 シリコンフォトニクス集積に向けたCMOS技術(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-57 SOI導波路プロセス(VI) : 液浸ArF露光を用いた導波路パターン形成(II)(シリコンフォトニクス,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- シリコン細線光導波路を用いた狭線幅波長可変レーザーの開発(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
- シリコン細線光導波路を用いた狭線幅波長可変レーザーの開発(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
- シリコン細線光導波路を用いた狭線幅波長可変レーザーの開発(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
- シリコン細線光導波路を用いた狭線幅波長可変レーザーの開発(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
- シリコン細線光導波路を用いた狭線幅波長可変レーザーの開発(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
- MSM型ゲルマニウム受光器の差動対光受信回路への応用(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,一般)
- C-3-10 ArF液浸露光を用いた2次元フォトニック結晶スラブ導波路(シリコンフォトニクス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-9 高精度ArF液浸露光を用いたシリコンフォトニクスデバイス(シリコンフォトニクス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-23 多層膜フォトニック結晶の多並列光学フィルタへの応用(光センシング(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-50 Si細線光導波路リング∠MZIフィルタを用いた狭線幅波長可変レーザ(光集積デバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
- 300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
- 円形共振器解析のためのBOR・2次元ハイブリッド型FDTD法(EMC一般,マイクロ波,電磁界解析)
- 円柱座標系用CPMLの性能評価(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- シリコンフォトニクス波長可変レーザーの高出力・安定動作(一般,超高速伝送,変復調,分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅,WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,及び一般(ECOC報告))
- 円形共振器解析のためのBOR・2次元ハイブリッド型FDTD法(EMC一般,マイクロ波,電磁界解析)
- 超伝導量子ビット集積化に向けた積層型微小接合作製プロセス(薄膜,デバイス技術及びその応用,一般)