C-3-57 SOI導波路プロセス(VI) : 液浸ArF露光を用いた導波路パターン形成(II)(シリコンフォトニクス,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)

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概要

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• 一般社団法人電子情報通信学会の論文
• 2012-08-28

著者

• 横山 信幸

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 堀川 剛

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 関 三好

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 外山 宗博

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 越野 圭二

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 大塚 実

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 杉山 曜宣

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 石塚 栄一

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 山岸 雅司

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 佐野 作

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 外山 宗博

  産業技術総合研究所

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