堀川 剛 | 産業技術総合研究所

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概要

• 同名の論文著者
• 産業技術総合研究所の論文著者

関連著者

• 堀川 剛

  産業技術総合研究所

• 関 三好

  産業技術総合研究所

• 佐野 作

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 外山 宗博

  産業技術総合研究所

• 佐野 作

  産業技術総合研究所

• 北 智洋

  東北大学大学院工学研究科電気・通信工学専攻

• 山田 博仁

  東北大学工学研究科

• 藤方 潤一

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

• 藤方 潤一

  フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

• 越野 圭二

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 杉山 曜宣

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 北 智洋

  東北大学工学研究科

• 大塚 実

  産業技術総合研究所

• 田主 裕一朗

  東北大学工学研究科

• 奈良 匡樹

  東北大学工学研究科

• 平野 秀

  東北大学工学研究科

• 越野 圭二

  産業技術総合研究所

• 横山 信幸

  産業技術総合研究所

• 杉山 曜宣

  産業技術総合研究所

• 石塚 栄一

  産業技術総合研究所

• 秋山 傑

  (株)富士通研究所

• 前澤 正明

  産業技術総合研究所

• 荒川 泰彦

  東京大学生産技術研究所

• 清水 隆徳

  日本電気株式会社システムプラットフォーム研究所

• 高橋 博之

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構

• 秋山 傑

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構

• 荒川 泰彦

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構

• 中村 隆宏

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(pecst):技術研究組合光電子融合基盤技術研究所(petra)

• 平山 直紀

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:産業技術総合研究所

• 野口 将高

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

• 清水 隆徳

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST)

• 清水 隆徳

  技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構

• 三浦 真

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(pecst):技術研究組合光電子融合基盤技術研究所(petra)

• 中村 隆宏

  フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

• 徳島 正敏

  産業技術総合研究所

• 堀川 剛

  フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:独立行政法人産業技術総合研究所

• 秋山 傑

  富士通研究所

• 清水 隆徳

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:光電子融合基盤技術研究所

• 平山 直紀

  産業技術総合研究所:フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構

• 関 三好

  産業技術総合研究所:フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構

• 清水 隆徳

  フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構

• 中村 隆宏

  Institute for Photonics-Electronics Convergence System Technology:Photonics Electronics Technology Research Association

• 三浦 真

  光電子融合基盤技術研究所

• 藤方 潤一

  光電子融合基盤技術研究所

• 野口 将高

  光電子融合基盤技術研究所

• 岡本 大典

  光電子融合基盤技術研究所

• 岡野 誠

  産業技術総合研究所

• 鈴木 恵治郎

  産業技術総合研究所

• 前澤 正明

  産総研ナノエレクトロニクス研究部門

• 清水 隆徳

  技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:フォトにクス・エケクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構

• 山岸 雅司

  産業技術総合研究所

• 佐藤 哲朗

  産業技術総合研究所

• 日高 睦夫

  産業技術総合研究所

• 埜口 良二

  産業技術総合研究所

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著作論文

• C-3-36 シリコンフォトニクス集積に向けたCMOS技術(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• MSM型ゲルマニウム受光器の差動対光受信回路への応用(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,一般)
• C-3-10 ArF液浸露光を用いた2次元フォトニック結晶スラブ導波路(シリコンフォトニクス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-9 高精度ArF液浸露光を用いたシリコンフォトニクスデバイス(シリコンフォトニクス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• 300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
• 300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
• 超伝導量子ビット集積化に向けた積層型微小接合作製プロセス(薄膜,デバイス技術及びその応用,一般)

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