堀川 剛 | 産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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堀川 剛
産業技術総合研究所
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関 三好
産業技術総合研究所
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佐野 作
独立行政法人産業技術総合研究所
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外山 宗博
産業技術総合研究所
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佐野 作
産業技術総合研究所
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北 智洋
東北大学大学院工学研究科電気・通信工学専攻
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山田 博仁
東北大学工学研究科
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藤方 潤一
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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藤方 潤一
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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越野 圭二
独立行政法人産業技術総合研究所
著作論文
- C-3-36 シリコンフォトニクス集積に向けたCMOS技術(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- MSM型ゲルマニウム受光器の差動対光受信回路への応用(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,一般)
- C-3-10 ArF液浸露光を用いた2次元フォトニック結晶スラブ導波路(シリコンフォトニクス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-9 高精度ArF液浸露光を用いたシリコンフォトニクスデバイス(シリコンフォトニクス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
- 300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
- 超伝導量子ビット集積化に向けた積層型微小接合作製プロセス(薄膜,デバイス技術及びその応用,一般)