C-11-1 H_2-N_2プラズマ処理時のガス圧力がナノ構造シリコンに及ぼす影響(C-11.シリコン材料・デバイス,一般セッション)
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概要
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- 2011-08-30
著者
-
須田 健一
佐藤工業株式会社中央技術研究所
-
本橋 光也
東京電機大学工学部
-
本橋 光也
東京電機大学工学部情報通信工学科
-
仲田 英起
東京電機大学
-
須田 健一
東京電機大学工学部
-
仲田 英起
東京電機大学工学部
-
長島 康仁
東京電機大学工学部
-
深井 浩輝
東京電機大学工学部
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