仲田 英起 | 東京電機大学工学部

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概要

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• 同名の論文著者
• 東京電機大学工学部の論文著者

関連著者

• 本橋 光也

  東京電機大学工学部情報通信工学科

• 仲田 英起

  東京電機大学工学部

• 本橋 光也

  東京電機大学工学部

• 仲田 英起

  東京電機大学

• 本間 和明

  東京電機大学工学部電気電子工学科

• 本間 和明

  東京電機大学

• 蛭田 泰隆

  東京電機大学大学院工学研究科

• 本間 和明

  東京電機大 工

• 須田 健一

  佐藤工業株式会社中央技術研究所

• 須田 健一

  東京電機大学工学部

• 蛭田 泰隆

  東京電機大学

• 和賀井 達也

  東京電機大学

• 渡辺 晃次

  東京電機大学工学部

• 渡辺 侑

  東京電機大学工学部

• 和賀井 達也

  東京電機大学工学部情報通信工学科

• 長島 康仁

  東京電機大学工学部

• 深井 浩輝

  東京電機大学工学部

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著作論文

• H_2-N_2系グロー放電プラズマ中の電子エネルギー状態
• 原料ガス分離分解型プラズマCVD法により生じるH_2-N_2プラズマ状態の解析
• C-11-2 原料ガス分離分解型プラズマCVD法を用いたa-SiN:H薄膜の作製(C-11. シリコン材料・デバイス, エレクトロニクス2)
• 原料ガス分離分解型プラズマCVD法により生じるプラズマ状態に関する研究
• ナノ構造シリコンヘのH_2-N_2プラズマ処理効果(シリコン関連材料の作製と評価)
• C-11-1 H_2-N_2プラズマ処理時のガス圧力がナノ構造シリコンに及ぼす影響(C-11.シリコン材料・デバイス,一般セッション)
• 水素-窒素系グロー放電プラズマの発光分光分析

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